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pp.447-453
본 연구는 식품 생산 환경에서 A. ochraceus를 저감하기 위하여 물리적 제어기술인 광살균(LED, UV), 열수 처리를 통하여 그 효과를 확인하고자 하였다. 이를 위하여 A. ochraceus 포자 현탁액(107-8 spore/mL)를 스테인리스 칩에 1 mL 접종하고 37oC에 건조한 후 각각의 물리적 처리에 적용하였다. LED를 활용하여 30분, 1, 2, 5, 8, 11시간 처리하였으나 균수에서 유의적인 차이를 확인하지 못하였으나 UV-C와 열수침지에서는 모두 A. ochraceus가 유의적으로 감소하였다. UV-C를 단독으로 스테인리스 칩에 360 kJ/m2까지 조사한 결과 A. ochraceus가 1.27 log CFU/ cm2 까지 유의적으로 감소한 것을 확인하였다. 열수 처리에서는 가장 고온인 83oC에서 5분간 침지할 경우 A. ochraceus 초기 접종농도인 6.49 log CFU/cm2를 모두 사멸 시켰다. 그러나 고온의 열에너지를 5분간 현장에서 유지하는 것이 쉽지 않으므로 경제성과 사용 적합성 등을 고려하여 비교적 저온인 60oC와 자외선을 복합처리 하여 적절한 저감 조건을 확인하고자 하였다. 복합처리 결과 미온수에서도 침지시간 증가와 UV-C 조사량 증가에 따라 유의적으로 감소하여 불검출되었다. 이러한 결과들을 바탕으로 미온수인 60oC 물에 작업도구 등을 침지하여 3분 간 침지한 후 10분 이상 UV 살균처리 장치에 비치하여 둔다면 작업 중 A. ochraceus가 식품으로 교차오염되는 가능성을 줄일 수 있을 것으로 예상된다.
In this study, the effectiveness of physical control technology, a combined light sterilization (LED, UV) and hot water treatment in reducing Aspergillus ochraceus for food production environment was investigated. In brief, 1 mL aliquot of A. ochraceus spore suspension (107-8 spore/mL) was inoculated onto stainless steel chips, which was then dried at 37oC, and each was subjected to different physical treatment. Treatments were performed for 0.5, 1, 2, 5, 8, and 11 hours to reduce the strains using a light-emitting diode, but no significant difference was confirmed among the treatments. However, a significant reduction was observed on the chips treated with UV-C exposure and hot water immersion. After being treated solely with 360 kJ/m2 of UV-C on stainless steel chip, the fungi were significantly reduced to 1.27 log CFU/cm2. Concerning the hot water treatment, the initial inoculum amount of 6.49 log CFU/cm2 was entirely killed by immersion in 83oC water for 5 minutes. Maintaining a high temperature for 5 minutes at the site is difficult. Thus, considering economic feasibility and usability, we attempted to confirm the appropriate A. ochraceus reduction conditions by combining a relatively low temperature of 60oC and UV rays. With the combined treatments, even in lukewarm water, A. ochraceus decreased significantly through the increases in the immersion time and the amount of UV-C irradiation, and the yield was below the detection limit. Based on these results, if work tools are immersed in 60oC lukewarm water for 3 minutes and then placed in a UV sterilization device for more than 10 minutes, the possibility of A. ochraceus cross-contamination during work is expected to be reduced.
Materials and Methods
Aspergillus ochraceus 분리 및 동정
균액 제조 및 스테인리스 칩 표면 균접종
열수와 UV-C, LED 단일처리
열수와 UV의 복합처리
곰팡이 분석
통계분석
Results and Discussion
곰팡이 동정 결과
A. ochraceus 저감을 위한 물리적 복합처리 실험
국문요약
References
