산화아연 막은 투명한 전도성 물질로써 다양한 분야의 광전자소자에 이용되고 있다. 그러므로 산화아연 막의 특성을 규명하는 것은 광전자소자의 성능을 높이는데 매우 중요한 역할을 할 것이다. 본 논 문에서는 이러한 산화아연 막을 용액공정 기반으로 제작하여 형태적, 구조적 특성을 평가하고자 한다. 구 체적으로는 졸-겔 방법을 반복적으로 시행하여, 시행 횟수에 따른 산화아연 막의 물성의 변화를 관찰할 것 이다. 일정한 용액 조건하에서, 5회의 반복적인 졸-겔 방법을 시행한 결과 결정화가 진행되는 것을 확인하 였다. 7회 이상에서는 원소 구성 및 결정화도가 특정 값에 수렴하는 경향을 보였다. 최종적인 산화아연 막 의 평균결정의 크기는 약 10.7 nm 정도로 계산되었다. 본 연구를 통해 최적의 결정화를 보이는 공정횟수 는 7회였다. 본 연구 결과 및 방법론은 다양한 용액공정 변수를 가변시키면서 적용할 수가 있고 최적의 공 정조건을 확립하는데 기여할 것으로 기대한다.

Multi-source evaporation is one of the methods to improve the thickness uniformity of thin films deposited by evaporation. In this study, a simulator for the relative thickness profile of a thin film deposited by a multi-source evaporation system was developed. Using this simulator, the relative thickness profiles of the evaporated thin films were simulated under various conditions, such as the number and arrangements of sources and source-to-substrate distance. The optimum conditions, in which the thickness uniformity is minimized, and the corresponding efficiency, were obtained. The substrate was a 5th generation substrate (dimensions of 1300 mm × 1100 mm). The number of sources and source-to-substrate distance were varied from 1 to 6 and 0 to the length of the major axis of the substrate (1300 mm), respectively. When the source plane, the area on which sources can be located, is limited to the substrate dimension, the minimum thickness uniformity, obtained when the number of sources is 6, was 3.3%; the corresponding efficiency was 16.6%. When the dimension of the source plane is enlarged two times, the thickness uniformity is remarkably improved while the efficiency is decreased. The minimum thickness uniformity, obtained when the number of sources is 6, was 0.5%; the corresponding efficiency was decreased to 9.1%. The expansion of the source plane brings about not only the improvement of the thickness uniformity, but also a decrement of the efficiency and an enlargement of equipment.