In this study, mammography was conducted with Lorad Selenia from HOLOGIC. The phantoms used were Female rando phantom from THE PHANTOM LABORATORY and ACR phantom from GAMMEX RMI. The dosimeters used were the glass dosimeter reader FDG1000 and PLD from CHIYODA TECHNOL. The shielding used to compare and determine the amount of scattered ray in this study were lead shielding gear with a thickness of 0.25mm from INFAB and a customized bismuth shielding with a thickness of 0.2mm(2 layers of 0.1mm). The conditions were 28kVp, 65mAs for CC view and 30kVp, 85mAs for MLO view. The exposure dose by scattered ray were measured from thyroid, breast on the opposite side and gonad (hereafter called critical organs) without any shieldings for the first experiment, then measured four times each with lead shielding for the next experiment, and measured four times each with bismuth shielding for the third experiment. The average dose for each critical organ without shieldings were 135.75μGy, 649.67μGy and 546.25μGy, With lead shielding, the numbers were 0μGy, 63μGy and 1.5μGy, and 6.25μGy, 12.25μGy and 26.5μGy with bismuth shielding. Therefore, the lead and bismuth shielding have reduced 95.364% and 93.550% of exposure dose. Use of shielding s during mammography reduces the exposure dose on critical organs and other organs of the patient, and despite the similar shielding rate, the new shielding using bismuth is useful in shielding thyroid and gonad considering the mobility of the patient, light weight and thickness of the shielding.

많은 선행 연구에서는 무연 차폐재를 제작하기 위하여 몬테카를로 시뮬레이션을 통해 방사선 차폐 능력과 경량화에 대한 가능성을 제시하고 있다. 하지만, 이는 바인더 및 미세 기공에 대한 구현이 어렵기에 제품화 공정에 필요한 정보를 충분히 제공하지 못하는 실정이다. 이에 본 연구에서는 제품화 공정에 요구되는 겔 페이스트에 대한 정보를 사전에 제공하기 위하여 스크린 프린팅 공법을 활용하여 충전율에 따른 방사선 차폐 능력에 대한 결과를 제시하였다. 본 연구에서는 방사선 차폐 능력을 평가하기 위해 IEC 61331-1: 2014와 KS A 4025에 부합하도록 실험 환경을 설계하였으며, 방사선 조사 조건은 KS A 4021 규격을 준용하여 총 여과 2.0 mmAl로 여과된 100 kVp를 이용하였다. 본 연구 결과, TVL를 기준으로 Pb 1270 μm, BaSO4 3035 μm, Bi2O3 1849 μm, WO3 2631 μm에서 근사한 값으로 분석되었다. 또한, 충전율은 BaSO4 38.6%, Bi2O3 27.1%, WO3 30.15%로 분석되었다. 하지만, 차후 저온고압 성형을 적용한다면 충전율을 높이면서도 기공률을 낮춤으로서 방사선 차폐 능력의 개선이 충분히 가능할 것으로 기대된다.

병원에서 방사선을 차폐하는데 있어 납은 매우 유용하게 사용되고 있다. 하지만 납은 독성을 가지고 있고 대체물질에 대한 연구가 많이 이루어지고 있으며, 대표적으로 텅스텐을 대체물질로 한 연구가 많이 이루어지고 있다. 이에 본 연구에서 납과 텅스텐의 물리적 특성 및 반가층 실험을 진행한 결과 원자번호가 높은 납 원소의 반응단면적이 텅스텐에 비해 높게 나타났으나, 텅스텐의 밀도가 높아 동일한 크기일 경우 텅스텐의 전자밀도가 납에 비해 약 1.7배 높은 것으로 나타났다. MCNPX를 이용한 모의 모사에서도 에너지 따라 다소 차이가 있지만 텅스텐이 납에 비해 약 1.4배 차폐효과가 높은 것으로 나타났으며, 텅스텐이 납에 비해 우수한 차폐효율을 갖고 있는 것으로 확인 되었다. 하지만 경제적 측면을 고려할 때 텅스텐은 희소금속으로 납에 비해 가격이 약 25배 높아 납에 대한 대체물질로는 부적당한 것으로 사료되었다.