정공 및 전자 수송층은 페로브스카이트 소자에서 효율 및 안정성을 증가시키는 중요한 역할을 하고 있다. 특히, NiO가 정공수송층 으로서 태양 전지 장치의 효율을 향상시키는 데 중요한 역할을 하는 것으로 알려져 있기 때문에 대부분의 연구자들이 태양 전지의 HTL(hole transport layer) 물질로서 NiO를 연구하고 있다. 본 연구는 NiO를 스크린 인쇄 및 스핀 코팅 방법으로 각각 제조 및 비교실험 하였으며, 서로의 특이점을 확인하고자 하였다. 실험결과 스크린 인쇄 기술로 10.65 %의 태양 전지 효율을 달성 한 반면 스핀 코팅 된 HTL로 18.61 % 효율을 달성했으며 또한 AFM 분석을 사용하여 HTL 층의 거칠기를 연 구하였다. 스크린 프린팅으로 형성된 필름의 불균일성으로 인해 HTL 필름에서 효율이 감소하는 것으로 밝혀졌다.