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pp.16-21
고 종횡비 MEMS 구조물의 습식 공정에서 세정 이후 건조 과정에서 발생하는 문제점들을 극복하기 위하여 초임계 이산화탄소를 이용한 고 종횡비의 MEMS 구조물의 건조방법에 대하여 조사하였다. 실험에 사용된 MEMS 구조물 습식 제조방법의 세정은 HF/water에서 식각된 cantilever beam을 isopropyl alcohol (IPA)로 치환하여 진행되었다. 초임계 이산화탄소에 의한 IPA의 제거율은 VOC 분석법을 통하여 다양한 조건에서 측정 되었고, 건조된 cantilever beam은 SEM을 이용하여 관찰하였다. 자연 건조를 통한 방법으로는 종횡비 1:15의 cantilever beam까지 stiction 없이 제조할 수 있었으나, 초임계 이산화탄소를 이용한 MEMS 구조물의 건조는 기존의 건조방법 보다 고 종횡비를 가지는 1:75의
cantilever beam까지 stiction 없이 제작할 수 있었다.
Supercritical carbon dioxide (scCO2) drying for a MEMS structure of high aspect ratio was
investigated to tackle the limitation of conventional drying method of the wet etching process. The MEMS structure of cantilever beams were released by a HF/water etchant solution. The aqueuous solution was replaced with isopropyl alcohol followed by replacement with scCO2. The removal of isopropyl alcohol using scCO2 in various experimental conditions was investigated by a volatile organic compound analysis. The morphology of cantilever beam was observed by scanning electron microscopy. The conventional drying technique produced cantilever beams without stiction below aspect ratio of 1:15, whereas scCO2 drying
technique presented a good performance at high aspect ratio of 1:75 without stiction.
