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BPSG 상에 화학증착된 구리박막의 후열처리에 의한 특성변화 KCI 등재 SCOPUS

Effect of Post-annealing on the Properties of the Copper Films Grown on BPSG by Chemical Vapor Deposition

  • 언어KOR
  • URLhttps://db.koreascholar.com/Article/Detail/295112
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한국재료학회지 (Korean Journal of Materials Research)
한국재료학회 (Materials Research Society Of Korea)
초록

본 연구에서는 BPSG(borophosphosilicate glass)/SiO2/Si 기판상에 5000Å의 구리박막을 화학증착한 후 Ar 분위기하 250-550˚C, 5-90초 급속열처리하여 열처리 전후의 결정구조, 면저항, 미세구조의 박막특성 변화를 분석하였다. 후열처리된 구리박막에서는 결정성 및 (111) 배향의개선과 함께 결정립 성장이 확인되었으나, 구리의 표면산화반응과 BPSG 내로의 급속한 확산에 의해 전기적 특성의 개선은 미미하였다. 그리고 열처리 박막내에는 구리 실리사이드상의 형성이 발견되지 않았으며, 250˚C/90초의 저온 장시간 또는 550˚C/20초의 고온 단시간 조건에서 전형적으로 나타나는 Cu2O 상이 시편의 전기비저항 증가와 표면열화에 직접적으로 영향을 미쳤다. 또한, 이들 결과로부터 급속열처리법에 의한 Cu/BPSG 열처리의 공정범위를 규명할 수 있었다.

저자
  • 전치훈 | Jeon, Chi-Hun
  • 김윤태 | 김윤태
  • 백종태 | 백종태
  • 유형준 | 유형준
  • 김대룡 | 김대룡