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RuO2 박막의 산소 분위기 열처리시 열적 안정성에 관한 연구 KCI 등재 SCOPUS

Thermal Stability of RuO2 Thin Film Annealed at High Temperature in Oxygen Atmosphere

오상호, 박찬경, 백홍구
  • 언어KOR
  • URLhttps://db.koreascholar.com/Article/Detail/295447
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한국재료학회지 (Korean Journal of Materials Research)
제8권 제12호 (1998.12)
pp.1090-1098
한국재료학회 (Materials Research Society Of Korea)
초록

Rf 마그네트론 반응성 스퍼터링법으로 RuO2박막을 Si 및 Ru/Si 기판 위에 증착한 뒤 산소 분위기 (1atm)에서 열처리를 하여 RuO2박막의 열적 안정성 및 확산방지 특성을 연구하였다. RuO2박막은 산소 분위기 700˚C에서 10분까지 안정하여, 산소와 실리콘에 대한 우수한 확산방지 특성을 나타내었다 750˚C 열처리시, 우선 성장 방위에 관계없이 RuO2박막 표면 및 내부에서 휘발 반응이 일어남과 동시에 확산방지 특성은 저하되었다. 그러나 800˚C 열처리 시에는 750˚C 열처리와는 다른 미세구조를 나타내었다. 이러한 열처리 온도에 따른 휘발반응에는 RuO2의 표면 결함구조인 RuO3와 증착시 박막내 함유된 과잉산소에 의한 결함 구조가 영향을 주는 것으로 판단된다.

저자
  • 오상호 | O, Sang-Ho
  • 박찬경 | 박찬경
  • 백홍구 | 백홍구
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