Preparation of Silicon Oxide Thin Film using Hydrofluorosilicic Acid - koreascholar

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Preparation of Silicon Oxide Thin Film using Hydrofluorosilicic Acid KCI 등재 SCOPUS

규불화수소산을 이용한 실리콘 산화물 필름 제조에 관한 연구

Park, Eun-Hui, Jeong, Heung-Ho, Im, Heon-Seong, Hong, Seong-Su, No, Jae-Seong

언어ENG
URLhttps://db.koreascholar.com/Article/Detail/295529

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한국재료학회지 (Korean Journal of Materials Research)

제9권 제4호 (1999.04)
pp.414-418

한국재료학회 (Materials Research Society Of Korea)

키워드

Liquid phase deposition LPD method Silicon oxide SiO2 film Hydrofluorosilicic acid h2SiF6 Boric acid h3BO3

저자

Park, Eun-Hui | 박은희
Jeong, Heung-Ho | 정흥호
Im, Heon-Seong | 임헌성
Hong, Seong-Su | 홍성수
No, Jae-Seong | 노재성

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