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Preparation of Silicon Oxide Thin Film using Hydrofluorosilicic Acid KCI 등재 SCOPUS

규불화수소산을 이용한 실리콘 산화물 필름 제조에 관한 연구

Park, Eun-Hui, Jeong, Heung-Ho, Im, Heon-Seong, Hong, Seong-Su, No, Jae-Seong
  • 언어ENG
  • URLhttps://db.koreascholar.com/Article/Detail/295529
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한국재료학회지 (Korean Journal of Materials Research)
제9권 제4호 (1999.04)
pp.414-418
한국재료학회 (Materials Research Society Of Korea)
키워드
Liquid phase depositionLPD methodSilicon oxideSiO2 filmHydrofluorosilicic acidh2SiF6Boric acidh3BO3
저자
  • Park, Eun-Hui | 박은희
  • Jeong, Heung-Ho | 정흥호
  • Im, Heon-Seong | 임헌성
  • Hong, Seong-Su | 홍성수
  • No, Jae-Seong | 노재성
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박은희, 정흥호, 임헌성, 홍성수, 노재성. (1999). 규불화수소산을 이용한 실리콘 산화물 필름 제조에 관한 연구. 한국재료학회지, 9(4), 414-418.

Park, Eun-Hui, Jeong, Heung-Ho, Im, Heon-Seong, Hong, Seong-Su, No, Jae-Seong. (1999). Preparation of Silicon Oxide Thin Film using Hydrofluorosilicic Acid. Korean Journal of Materials Research, 9(4), 414-418.

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