Cl2/h2 플라즈마 조건이 n-GaN 식각 특성 및 저저항 접촉 형성에 미치는 영향

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Effects of Cl2/H2Plasma Condition on the etch Properties of n-GaN and ohmic Contact Formation

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한국재료학회지 (Korean Journal of Materials Research)

한국재료학회 (Materials Research Society Of Korea)

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