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고밀도 플라즈마 CVD 방법에 의한 TiN barrier metal 형성과 특성 KCI 등재 SCOPUS
Characteristics of TiN Barrier Metal Prepared by High Density Plasma CVD Method
최치규, 강민성, 오경숙, 이유성, 오대현, 황찬용, 손종원, 이정용, 김건호
- 언어KOR
- URLhttps://db.koreascholar.com/Article/Detail/295639
4,000원
한국재료학회지
(Korean Journal of Materials Research)
제9권 제11호 (1999.11)
pp.1129-1136
pp.1129-1136
한국재료학회
(Materials Research Society Of Korea)
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