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통계적 실험 방법에 의한 Ta 박막의 증착 특성 연구 KCI 등재 SCOPUS

Characteristics of Sputtered Ta films by Statistical Method

  • 언어KOR
  • URLhttps://db.koreascholar.com/Article/Detail/295860
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한국재료학회지 (Korean Journal of Materials Research)
한국재료학회 (Materials Research Society Of Korea)
초록

통계적 방법을 사용하여 스퍼터 증착한 Ta 박막의 증착속도, 비저항, 면저항 균일도, 반사도, 응력 등의 물성을 측정하고 분석하였다. RS/1의 표면 반응 분석법에 의해 독립변수와 종속변수간의 함수관계를 예측하였으며. 이때 비저항과 면저항의 균일도 측면에서 최적조건은 증착 압력 2 mTorr, 증착 전력 8 W/cm2 및 기판온도 20˚C였다. 실험 모텔의 신뢰성 (fitness)은 풀링(pooling)하지 않은 경우 0.85 ~0.9의 값을 얻었다. 본 조건하에서 증착된 박막은 비저항 180μΩcm와 면저항 균일도 ~ 2%의 값을 가졌다. 투과전자 현미경과 X선 회절법을 이용하여 분석한 결과 증착된 박막은 100~200 정도의 결정립 크기를 갖는 β-Ta 임을 확인하였다.

저자
  • 서유석 | Seo, Yu-Seok
  • 박대규 | 박대규
  • 정철모 | 정철모
  • 김상범 | 김상범
  • 손평근 | 손평근
  • 이승진 | 이승진
  • 김한민 | 김한민
  • 양홍선 | 양홍선
  • 박진원 | 박진원