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반응성 화학기상증착법에 의해 다결정실리콘 위에 직접성장된 CoSi2 층의 열적안정성의 개선 KCI 등재 SCOPUS

Improvement of Thermal Stability of In-situ Grown CoSi2 Layer on Poly-Si Using Reactive Chemical Vapor Deposition

이희승, 이화성, 안병태
  • 언어KOR
  • URLhttps://db.koreascholar.com/Article/Detail/295884
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한국재료학회지 (Korean Journal of Materials Research)
제11권 제8호 (2001.08)
pp.641-646
한국재료학회 (Materials Research Society Of Korea)
키워드
cobalt silicidereactive CVDpoly-sithermal stability
저자
  • 이희승 | Lee, Hui-Seung
  • 이화성 | 이화성
  • 안병태 | 안병태
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