BCl3 기반의 혼합가스들을 이용한 InP 고밀도 유도결합 플라즈마 식각 - koreascholar

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BCl3 기반의 혼합가스들을 이용한 InP 고밀도 유도결합 플라즈마 식각 KCI 등재 SCOPUS

High Density Inductively Coupled Plasma Etching of InP in BCl3-Based Chemistries

조관식, 임완태, 백인규, 이제원, 전민현

언어KOR
URLhttps://db.koreascholar.com/Article/Detail/296245

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한국재료학회지 (Korean Journal of Materials Research)

제13권 제12호 (2003.12)
pp.775-778

한국재료학회 (Materials Research Society Of Korea)

키워드

ICP Dry Etching InP HDPICP BCl3

저자

조관식 | Cho, Guan-Sik
임완태 | 임완태
백인규 | 백인규
이제원 | 이제원
전민현 | 전민현

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