반응성 스퍼터링법에서의 RF전력, 기판온도 및 가스유량비가 WCx막의 기계적 특성에 끼치는 효과

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Effects of RF Power, Substrate Temperature and Gas Flow Ratio on the Mechanical Properties of WCx Films Deposited by Reactive Sputtering

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한국재료학회지 (Korean Journal of Materials Research)

한국재료학회 (Materials Research Society Of Korea)

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