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반응성 스퍼터링법에서의 RF전력, 기판온도 및 가스유량비가 WCx막의 기계적 특성에 끼치는 효과 KCI 등재 SCOPUS

Effects of RF Power, Substrate Temperature and Gas Flow Ratio on the Mechanical Properties of WCx Films Deposited by Reactive Sputtering

박연규, 이종무
  • 언어KOR
  • URLhttps://db.koreascholar.com/Article/Detail/296511
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한국재료학회지 (Korean Journal of Materials Research)
제15권 제10호 (2005.10)
pp.621-625
한국재료학회 (Materials Research Society Of Korea)
키워드
tungsten carbidesputteringdeposition ratehardnesscorrosion resistance
저자
  • 이종무 | 이종무
  • 박연규 | Park, Y. K.
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박연규, 이종무. (2005). 반응성 스퍼터링법에서의 RF전력, 기판온도 및 가스유량비가 WCx막의 기계적 특성에 끼치는 효과. 한국재료학회지, 15(10), 621-625.

Park, Y. K., Lee, C. M.. (2005). Effects of RF Power, Substrate Temperature and Gas Flow Ratio on the Mechanical Properties of WCx Films Deposited by Reactive Sputtering. Korean Journal of Materials Research, 15(10), 621-625.

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