본 연구에서는 제련 공정에서 발생되는 희소금속 및 유가금속 회수를 위한 나노여과막으로 도레이 케미칼에서 생산되는 NE40, 70, 90을 선정하였으며, 습식 제련 공정을 모사하기 위해 황산 15% 용액에 침지하여 시간에 따라 표면 특성을 분석하였다. 황산 노출 전/후의 표면 특성 분석을 위해, 주사전자현미경(SEM), 원자간력현미경 (AFM), 감쇠전반사-푸리에변환 적외선분광기 (ATR-FTIR), 광전자분광기 (XPS)를 이용하여 분석하였다. 이를 바탕으로 Piperazine 기반의 NE40, 70의 분리막이 m-Phenylenediamine (MPD) 기반의 NE90 분리막과 비교하여 산에 대한 영향이 많음을 알 수 있었으며, 내산성을 가지는 분리막을 위해 MPD 기반의 분리막이 유리함을 보여주었다.

• 전병문(유니스트 도시환경공학부) | Byung-Moon Jun
• 김우정(유니스트 도시환경공학부) | Woo Jeong Kim
• 김유경(유니스트 도시환경공학부) | Yu-Kyung Kim
• 이형개(유니스트 도시환경공학부) | Hyung Kae Lee
• 박형규(유니스트 도시환경공학부) | Hyung Gyu Park
• 권영남(유니스트 도시환경공학부) | Young-Nam Kwon