포토리소그래피는 웨이퍼 위에 선폭 10나노 이하의 패턴을 올리는 반도체 제조 공정의 핵심 기술이며 선폭을 줄이고 불량을 줄이기 위하여 photo-resist 용 액 제조 및 정제 기술이 상당한 수준에 올라와 있지만 아직고 soft particle 정제를 위한 공정을 시도되고 있다. 현재 개발되어 있는 필터는 soft particle 정제 기술이 상당히 미흡한 수준이다. 나일론이나 폴리에틸렌 위에 아라미드 고분자 를 함침하여 soft particle 정제 특성을 살펴보았다. 또한 팔라듐 나노입자를 합성하여 투과 특성에 사용하였다.

• 김인철(한국화학연구원, Korea Research Institute of Chemical Technology) | In-Chul Kim
• 안은숙(한국화학연구원, Korea Research Institute of Chemical Technology) | Eun-Sook Ahn