인공지능은 4차 산업혁명의 프레임이 소개된 이후 점차 보편적인 기술로 자리를 잡아가고 있으며, 인공지능 관련 특허 출원도 크게 증가하고 있다. 최근에는 특허 생태계가 출원 건수 위주의 양적 경쟁에서 고품질의 특허 확보라는 질적 경쟁으로 패러다임이 변화되면서, 저품질 특허로 인한 비용 손실에 관심이 높아지고 있다. 이러한 배경으로 본 연구에서는 머신러닝과 Doc2Vec 알고리즘을 활용하여 특허 품질을 예측하는 방법을 제안하고자 한다. 본 연구를 위해 WIPO에서 정의한 CPC 코드를 활용하여 미국 특허청(USPTO)에 등록된 인공지능 관련 특허 데이터를 추출하였고, 이를 통해 정형 데이터 기반 19개 변수, 비정형 데이터 기반 7개 변수를 개발하였다. 특히, 새롭게 제안하는 Doc2Vec 알고리즘을 이용한 제목과 초록 텍스트 유사도 변수는 고품질 특허를 예측하는데 영향을 미칠 것으로 판단된다. 이에 유사도 변수의 효과를 확인하기 위해 유사도 변수를 포함한 앙상블 기반 머신러닝 모델과 포함하지 않은 모델을 개발하여 비교하였다. 실험 결과, 유사도 변수를 포함한 모델이 AUC 0.013, f1-score 0.025가 높게 나타나 더 우수한 성능을 보였다. 이는 유사도 변수가 고품질 특허 예측에 기여한다는 것을 시사한다. 또한, SHAP을 이용하여 블랙박스 형태의 머신러닝 변수 영향도를 설명하였다. 본 연구를 통해 핵심 기술 분야인 인공지능과 같은 영역에서 특허의 품질을 예측하고, 고품질 특허 개발을 장려함으로써 사회적 가치를 실현하는 데 기여할 수 있을 것으로 기대한다.

To date, facility layout problems has been solved and applied for job shop situations. Since flow shop has more restrictions, the solution space is much smaller than job shop. An efficient heuristic algorithm for facility layout problems for flow shop lay