실리콘 웨이퍼 제조용 단결정 성장 공정에서 발생하는 석용 도가니는 사업장 폐기물로서 그 처리방법이 매립이어서 폐기물처리비 및 환경오염 등의 문제점이 있다. 그러나 석영도가니의 성분은 대부분 무기성 물질로 주성분이 SiO2이고 그 함량이 98% 이상인 고품위 실리카이다. 현재 국내에서 요구되는 실리카는 대부분 해외에서 수입되는 것으로 수입된 천연실리카를 다시 정제하여 세라믹 재료 및 건축재로부터 반도체 실리콘을 제조하는 원료까지 다양한 용도로 사용되고 있다. 따라서 사업장 폐기물로 배출되는 석영도가니를 재활용하기 위한 정제 및 고순도화 기술을 개발하여 환경오염 및 폐기물처리비를 저감하고 수입되는 실리카를 대체하고 압전소자, 집적회로(IC)용 원료 및 광학 유리와 반도체 실리콘 제조용 초자류 등과 같이 고순도 실리카를 요구하는 산업에 제공하고자 한다. 연구개발 내용은 폐기물로 배출되는 석영도가니의 성상 및 불순물 특성분석, 석영도가니의 물리적 정제특성 연구, 석영도가니에 함유된 불순물의 화학적 침출 특성 연구, 고순도 실리카 분말 정제 공정 연구, 상용화 plant의 최적 운전조건 및 공정변수 확립이고 연구개발 결과는 실리콘 웨이퍼 제조 공정에서 발생되는 석영도가니는 Multi crucible과 Mono crucible로 나뉘는데 Multi crucible에는 Si3N4(silicon nitride)가 도포되어 있어 Mono에 비해 불순물 함량이 높다. 불순물은 Mono crucible은 Al2O3(0.48 wt%), Fe2O3(0.12wt%), Na2O(0.03 wt%)순이었고, Multi crucible의 경우에는 Al2O3(0.61 wt%), Si3N4(0.38 wt%), Fe2O3(0.11)순이었다.