현재까지 박막코팅 분야에 주로 이용해 오던 플라즈마 용융분사법을 이용하여 고밀도의 두꺼운 세라믹 침적물을 제조하였다. 용융점이 2910K인 ZrO2-20wt%Y2O3분말을 이용하여 최적조건에서 이론밀도의 약 97%의 침적물을 얻었다. 고밀도 침적에 영향을 미치는 변수는 챔버 내부압력, 플라즈마동력, 플라즈마 가스조성, 분사거리, 분말입자 크기 등이었으며, 침적밀도 및 침적된 splat의 형태는 분말의 용융정도 및 챔버 내부압력에 크게 좌우되었다. 높은 밀도으 침적물을 만들기 위해서는 분말을 완전히 용융시키는 것이 중요하며, 완전히 용융된 조건에서는 챔버 내부압력이 낮고 분말분사거리가 짧은 조건 즉, 분사되는 분말이 높은 모멘텀을 가질수록 침적물의 밀도가 증가함을 알 수 있었다. 실험에서 얻어진 결과는 ANOVA 통계방법으로 분석하여 단일변수의 영향뿐만 아니라 이들 변수가 서로 조합하여 밀도에 미치는 영향도 분석하였다.

Thick and dense deposit of higher than 97% of theoretical density was formed by induction plasma spraying. To investigate the effects of powder morphology on the density of deposit, two different kinds of Yttria-Stabilized-Zirconia powder, METCO202NS (atomized & agglomerated) and AMDRY146 (fused & crushed), were used and compared. After plasma treatment, porous METCO202NS powder was all the more densely deposited and its density was increased. In addition to the effect of powder morphology, the process parameters such as, sheath gas composition, probe position, particle size and spraying distance, and so on, were evaluated. The result of experiment with AMDRY146 powder, particle size and spraying distance affected highly on the density of the deposit. The optimum process condition for the deposition of -75 of 20%-Yttria-Stabilized-Zirconia powder was 120/201/min of Ar/ gas rate, 80 kW of plasma plate power, 8 cm of probe position and 150 Torr of spraying chamber pressure, at which its density showed 97.91% of theoretical density and its deposition rate was 20 mm/min. All the results were assessed by statistical approach what is called ANOVA.