목 적: 본 연구는 SnO2를 모체로 하는 투명전도성 박막을 제조하기 위하여, 가용성 염인 Sn-Chloride와 H3PO4를 출발물질로 사용하였으며, 졸-겔법으로 박막을 제조하여 특성평가를 연구함이다. 방 법: Spin coating기를 이용하여 코팅용액을 기판에 떨어뜨린 후 공기분위기에서 2000 rpm으로 10초간 기판을 회전하여 박막을 도포하며, 500℃로 10분간 열처리하여 P-doped SnO2 박막을 제조하였다. 결 과: 박막의 표면에는 코팅 횟수가 5회, 10회의 경우에는 기공이나 크랙이 나타나지 않았으나 15회 및 20회로 증가함에 따라 미세한 기공들이 관찰되었다. 가시영역에서의 투과율은 5회 및 10회 코팅한 박막의 경우 약 85~90%을 나타내고 있으나, 코팅횟수가 15회 및 20회로 증가함에 따라 박막의 투과율은 80% 이하로 급격히 감소하였다. 4-probe법을 이용한 전기저항은 박막의 코팅횟수가 10회일 경우에 2.7×10-4Ω·cm-1이었으며, 코팅회수가 15회 및 20회로 증가함에 따라 9.8×10-3Ω?cm-1 및 8.3×10-2Ω·cm-1으로 박막의 저항값은 급격히 증가하였다. 결 론: 10회 코팅한 박막의 가시영역에서의 투과율은 85~90%로 매우 높았으며, 저항 값은 2.7×10-4Ω?cm-1로 투명 전도막으로 사용하기에 충분한 특성을 나타냈다.