Pellicle is defined as a thin transparent film stretched over an aluminum (Al) frame that is glued on one side of a photomask. As semiconductor devices are pursuing higher levels of integration and higher resolution patterns, the cleaning of the Al flame surface is becoming a critical step because the contaminants on the Al flame can cause lithography exposure defects on the wafers. In order to remove these contaminants from the Al frame, a highly concentrated nitric acid (HNO3) solution is used. However, it is difficult to fully remove them, which results in an increase in the Al surface roughness. In this paper, the pellicle frame cleaning is investigated using various cleaning solutions. When the mixture of sulfuric acid (H2SO4), hydrofluoric acid (HF), hydrogen peroxide (H2O2), and deionized water with ultrasonic is used, a high cleaning efficiency is achieved without HNO3. Thus, this cleaning process is suitable for Al frame cleaning and it can also reduce the use of chemicals.

‘장원’은 국립산림과학원에서 당도가 높으면서 종피가 잘 벗겨지는 과실 특성을 가진 품종을 육성하기 위해 수령 60년 생 이상의 노거수를 대상으로 선발하여 개발한 품종이다. 이 품종은 2001년에 처음으로 선발되었고 2007 ~ 2009년까지 과실 특성에 대한 안전성 검정을 수행하였다. 특히 이 품종의 수확시기는 9월 둘째주이며, 8년생을 기준으로 나무당 수확 량은 약 3.9 kg이다. 이 품종은 과실 특성으로 당도 17.5%, 경도 9.6 kg/cm2, 종피 박피율 98.6%로 대조 품종인 유마 보 다 과실품질이 우수하여 군밤용으로 특화되어 이용 될 수 있 다. 또한 다른 품종의 종피 박피율 향상을 위한 수분수로도 활용 가능성이 크다.