대조차 개방형 조간대 퇴적물에 대한 태풍 효과를 한국 서해안 고창 동호리 조간대에서 연구하였다. 2010년 태 풍 곤파스 전·후와 2018년 솔릭 전·후에 나타난 표층 퇴적물 조직, 집적률, 퇴적상 변화를 관측하였다. 두 개의 태풍 곤파스와 솔릭은 각각 2010년 9월 1일과 2일, 2018년 8월 23일과 24일 사이에 한반도 남서부 연안에 상륙하여 내륙을 관통하였다. 태풍 곤파스 전·후와 솔릭 전·후에 고창 동호리 조간대의 측선을 따라 30m 간격으로 표층 퇴적물을 채취 하고 집적률을 측정하였다. 동호리 조간대를 평균고조면, 평균해수면, 평균저조면을 기준으로 고조대, 중조대, 저조대로 세분하여 연구하였다. 두 태풍 모두 태풍 후에 고조대는 퇴적되었고 중조대와 저조대는 침식되었다. 고조대에서 저조대 방향으로 갈수록 집적률이 감소하였다. 고조대의 표층 퇴적물 조직은 두 태풍 모두 태풍 후에 평균 입도는 세립해지고 분급은 양호해졌다. 중조대의 표층 퇴적물 조직은 변화가 거의 없었으며, 저조대는 일부 구간에서 태풍 후에 띠 형태의 퇴적체가 나타났다.

Particulate matter (PM) has recently been considered one of the most harmful air pollutants to public health. Plants have been known to degrade and deposit particle pollutants with epicuticular wax (EW), and this capacity can be influenced by environmental conditions including relative humidity (RH). The present study examined the effects of RH on EW generation and PM deposition upon leaf surfaces within Asplenium nidus ‘Avis’. The plants were treated in growth chambers with two levels of RH (low: 30% - 40% and high: 80% - 90%) for a period of four weeks, and subsequently exposed to a 30 μg･m-3 concentration of TiO2 particles as a PM resource for 72 hours. The EW ultrastructure on the leaf surface was observed as the thin films type, which was not morphologically changed in the condition of low or high RH treatment. For four weeks of RH treatment, the fresh weight and leaf area per plant were not significant between low and high RH treatment, while dry weight was significantly higher in the high RH condition. We also found that greater amounts of EW per fresh weight, dry weight and leaf area were generated in high RH. However, the total amounts of PM deposition (surface PM + in-wax PM) of the plants were higher within the low RH treatment with a higher proportion of surface PM. In contrast the proportion of in-wax PM was 15% higher within the high RH. These results suggest that EW generation is affected by air humidity and that proportion of PM deposition in the EW layer were influenced by the amount of total wax load.