특허권의 보호수단은 물권적 보호원칙과 손해 배상원칙으로 유형화된다. 물권적 보호원칙은 특허권자가 침해자에 대하여 금지청구권을 행사하여 타인의 실시행위를 배제할 수 있다는 것을 의미한다. 반면 손해배상원칙에 의하는 경우, 특허권자는 과거의 실시에 대한 손해배상과 장래의 실시에 대한 실시료 지급만을 청구할 수 있고, 타인 의 실시행위에 대한 중지를 청구할 수는 없다. 이와 같이 특허법에서 손해배상원칙은 어느 누구도 보상을 지급하려는 의사가 있으면 특허발명을 이 용할 수 있다는 것을 의미한다. 한편 물권적 보호 원칙에 따른 보호는 특허권의 배타성을 지나치게 강조하여 특허제도의 효율성을 저해할 우려가 있다. 따라서 손해배상원칙과의 적용을 통하여 특허의 배타성을 조정할 필요가 있다. 다만, 손해배상 원칙을 명문의 규정 없이 적용하는 이론적 접근은 한계가 있고, 제도적 차원의 접근이 요구된다. 이에 이 글은 손해배상원칙의 특허제도에의 적용방안을 특허권자의 동의여부를 기준으로 ‘강제적 손해배상원칙’과 ‘사적 손해배상원칙’으로 구분하여 검토하였다. 우선 강제적 손해배상원칙의 예로서 강제실시제도는 이미 우리 특허법에 도입되어 있으나 실질적인 활용도는 낮다. 이에 제도의 활성화 방안으로 적용범위 확대, 준사법적 절차로 의 통일 등의 법적 개선방안을 제시하였다. 나아가 사적 손해배상원칙의 예로서 자발적 실시허락 (LOR, License of right) 제도를 소개하였다. 특허권자는 이러한 선언 후에는 물권적 보호원칙에 따른 보호를 받을 수 없고, 발명의 실시를 원하는 자라면 누구에게나 실시권을 부여하여야 한다. 이러한 제도는 특허권자의 사전적 동의를 전제로 하 면서, 거래비용을 최소화하여 발명의 실시를 촉진한다는 점에서 그 도입의 필요성이 있다.

베른협약에서는 저작인격권의 포기에 대해 명문으로 금지하고 있지 않다. 따라서 저작인격권 포기는 각국에서 입법으로 규정되어 있거나, 명문의 규정이 없는 경우에는 해석에 맡겨져 있다. 영미법계에서 저작인격권 포기의 명문 규정은 일종의 불협화음을 해소하기 위한 입법적 의도라고 해석될 수 있다. 반면 대륙법계에서 탄생하고 발전한 저작인격권은 ‘일신전속성’이라는 개념적 울타리에서 ‘포기’와는 친숙하지 않았다. 그러나 이러한 기준이 무색할 만큼 각국의 입법 태도는 다양하고, 이는 저작인격권의 포기에 관한 논의에서 보다 유연한 사고가 필요하다는 점을 시사한다. 우리 학설은 저작인격권의 일신전속성에 비추어 저작인격권은 포기될 수 없다는 견해가 다수설이다. 그러나 저작인격권의 자연권성을 부정하거나, 저작인격권의 특수성을 긍정하는 입장에서 저작인격권의 포기성을 긍정하는 소수설이 제기되고 있다. 저작인격권은 저작물을 매개로하는 인격적 이익을 보호한다는 점에서 성명권, 명예권, 초상권 등과 완전히 구분되는 별개의 권리라고 보기 어렵다. 그리고 비포기성은 저작인격권의 본질을 해하지 않는 범위 내에서 유동적으로 해석될 수 있는 개념이다. 결국 저작인격권의 본질이 인격적 이익 보호에 있다면, 반대로 저작자의 인격적 이익을 훼손하지 않은 범위 내의 저작인격권 포기는 인정됨이 타당하다.

In this study, N doped TiO2 (TiO-N) thin film was prepared by DC magnetron sputtering method to show the photocatalytic activity in a visible range. Various gases (Ar, O2 and N2) were used and Ti target was impressed by 1.2 kW-5.8 kW power range. The hysteresis of TiO-N thin film as a function of discharge voltage wasn't observed in 1.2 and 2.9kW of applied power. Cross sections and surfaces of thin films by FE-SEM were tiny and dense particle sizes of both films with normal cylindrical structures. XRD pattern of TiO2 and TiO-N thin films was appeared by only anatase peak. Red shift in UV-Vis adsorption spectra was investigated TiO-N thin film. Photoactivity was evaluated by removal rate measurement of suncion yellow among reactive dyes. The photodegradation rate of TiO2 thin film on visible radiation was shown little efficiency but TiO-N was about 18%.