본 연구는 저온기 시설참외 재배 시 탄산가스 발생제(탄산솔)의 사용효과를 구명하기 위하여 수행하였다. 600 m2 크기 하우스에 탄산가스 발생제(100g/1봉)를 10, 20 및 30봉을 각각 매달아 무처리와 비교하였다. 그 결과 무처리구에 비해 처리구에서 탄산가스 농도가 3.0~3.2배 정도 높았다. 그리고 무처리구에 비해 처리구에서 과중이 20.2~22.0g 더 무겁고, 태좌부 당도가 1.5~2.1oBrix 더 높았으며, 색도(a값)도 우수하였다. 또한 탄산가스 발생제 처리한 것이 무처리에 비해 발효과율 및 기형과율이 각각 2.9~3.9%, 5.4~7.3% 감소하였고, 상품과율은 8.7~10.3% 증가하였다. 10a당 상품과 수량은 무처리구의 385.8kg에 비하여 탄산가스 발생제 10, 20 및 30봉 처리 한 것이 각각 10.3%, 14.8%, 16.2% 증가하였다. 이상의 결과를 보아, 저온기 참외 시설재배시 탄산가스 발생제를 시용함으로써 탄산가스 농도가 높아져 광합성이 촉진되어 품질이 향상되고 수량이 증가한 것으로 판단되었다.

Atomic layer deposition(ALD) is a promising deposition method and has been studied and used in many different areas, such as displays, semiconductors, batteries, and solar cells. This method, which is based on a self-limiting growth mechanism, facilitates precise control of film thickness at an atomic level and enables deposition on large and three dimensionally complex surfaces. For instance, ALD technology is very useful for 3D and high aspect ratio structures such as dynamic random access memory(DRAM) and other non-volatile memories(NVMs). In addition, a variety of materials can be deposited using ALD, oxides, nitrides, sulfides, metals, and so on. In conventional ALD, the source and reactant are pulsed into the reaction chamber alternately, one at a time, separated by purging or evacuation periods. Thermal ALD and metal organic ALD are also used, but these have their own advantages and disadvantages. Furthermore, plasma-enhanced ALD has come into the spotlight because it has more freedom in processing conditions; it uses highly reactive radicals and ions and for a wider range of material properties than the conventional thermal ALD, which uses H2O and O3 as an oxygen reactant. However, the throughput is still a challenge for a current time divided ALD system. Therefore, a new concept of ALD, fast ALD or spatial ALD, which separate half-reactions spatially, has been extensively under development. In this paper, we reviewed these various kinds of ALD equipment, possible materials using ALD, and recent ALD research applications mainly focused on materials required in microelectronics.

노화란 시간경과에 따라 생체기능의 불가역적인 저하로 치매, 뇌혈관질환, 고혈압, 암 등과 같은 노화관련 질병이 생겨나며, 세포들이 생명력을 잃어가는 일련의 현상이다. 노화로 인한 대표적인 질병은 퇴행성 뇌 질환에 의한 알츠하이머, 치매와 파킨슨병이 있다. 이 병들은 초기의 변화가 두드러지지 않아 조기 진단이 어렵고, 질병의 진행을 막는데 어려움이 있다. 이를 해결할 방법으로 유전자 지표를 개발하는 것이 중요한 과제라 할 수 있는데, 본 연구는 노화 동물모델인 SAMP1 마우스를 대조군인 SAMR1 마우스를 비교하여 노화의 초기단계에 차등 발현하는 유전자를 확인하여 향후 노화와 연관 지표를 발굴하기 위하여 실시되었다. 먼저, 성장단계인 8주령과 노화초기진행단계인 26주령의 뇌 조직에서의 차등발현 유전자를 발굴하고자 cDNA chip 분석을 수행하였고, 신뢰성을 가지고 생물학적 변이를 검출할 수 있는 유전자는 13,939개의 유전자를 발굴하였다. 이들 중 발현이 2-fold 이상 증감하는 유전자들을 조사한 결과, 2,029개의 유전자를 선별할 수 있었다. 또한, 기능별로 분류한 결과 노화가 진행되는 과정에서 총 증가 혹은 감소한 유전자의 개수는 660개였으며, 이 중 노화와 연관성이 높은 유전자는 74개였다. 26주령에 증가양상을 보인 것이 46개, 감소양상을 보인 유전자가 28개로 밝혀졌다. 이를 검증하기 위해 노화와 관련된 유용한 유전자인 Wnt7a, Prkcb, Dgke가 선별되어 real-time qPCR을 수행하였다. 그 결과 Wnt7a 유전자는 노화가 진행됨에 따라 발현양이 급격히 감소하여 노화 초기 단계의 지표로 활용이 가능할 것으로 사료된다. 반면에 Prkcb 유전자는 성장단계의 발현량에는 관계없이 노화초기단계에서 억제됨을 확인하였고, Dgke는 성장단계부터 유전자 발현이 억제되어 노화에 영향을 미칠 것으로 판단된다.

In this paper, we studied a p-type reflector based on indium tin oxide (ITO) for vertical-type ultraviolet light-emitting diodes (UV LEDs). We investigated the reflectance properties with different deposition methods. An ITO layer with a thickness of 50 nm was deposited by two different methods, sputtering and e-beam evaporation. From the measurement of the optical reflection, we obtained 70% reflectance at a wavelength of 382 nm by means of sputtering, while only 30% reflectance resulted when using the e-beam evaporation method. Also, the light output power of a 1mm×1mm vertical chip created with the sputtering method recorded a twofold increase over a chip created with e-beam evaporation method. From the measurement of the root mean square (RMS), we obtained a RMS value 1.3 nm for the ITO layer using the sputtering method, while this value was 5.6 nm for the ITO layer when using the e-beam evaporation method. These decreases in the reflectance and light output power when using the e-beam evaporation method are thought to stem from the rough surface morphology of the ITO layer, which leads to diffused reflection and the absorption of light. However, the turn-on voltage and operation voltage of the two samples showed identical results of 2.42 V and 3.5 V, respectively. Given these results, we conclude that the two ITO layers created by different deposition methods showed no differences in the electric properties of the ohmic contact and series resistance.

본 연구에서는 50대 택시 운전자를 대상으로 동작 신호인 Jerk-Cost function(JC)와 차간거리의 분산계수(Anterior-Posterior Coefficient of Variation, APCV), 차선이격거리의 분산계수(Medial-Lateral Coefficient of Variation, MLCV)와 같은 차량 통제 데이터를 이용하여 운전 중 문자 메시지 전송 또는 네비게이션 검색과 같은 동시 과제 수행이 운전 수행 능력에 어떠한 영향을 미치는지를 알아보고자 하였다. 남성 14명과 여성 14명을 대상으로 실험을 진행하였다. 피험자는 일정 속도(80km/hr or 100km/hr)로 주행하는 선행 차량과 일정 거리 30m를 유지하며 주행하도록 하였다. 처음 1분간은 운전만을 수행하게 하였으며, 다음 1분 동안은 운전만을 수행하거나 운전과 함께 동시 과제를 수행하도록 하였다. MLCV와 APCV는 80km/hr와 100km/hr 주행 시 Driving only에 비해 Driving + Sending Text Message(STM)와 Driving + Searching Navigation(SN)에서 유의하게 증가하였다. JC 또한 주행 시 Driving only에 비해 Driving + STM과 Driving + SN에서 증가하였다. 본 연구를 통해 운전 경력이 길고 운전 전문가라고 할 수 있는 50대 택시 운전자도 운전만을 수행하는 경우에 비해 운전과 함께 문자 메시지 전송 또는 네비게이션 검색 과제를 수행하게 될 경우 동작 패턴이 거칠어지고 차량 통제가 어려워진다는 사실을 도출할 수 있었다.

최근 건축 경향에 따라 단층 프리폼 구조에 대한 관심이 증대되고 있다. 축력과 모멘트를 동시에 받는 구조적인 특성으로 인해 프리폼 구조에서 노드는 응력이 집중되는 부분으로 상세 개발이 이루어져야 한다. 본 논문은 단층 프리폼 구조의 모멘트형 노드를 제안하고 축력과 모멘트에 대한 유한요소해석을 수행하였다. 유한요소해석을 통해 내력이 검증된 모델에 구멍 크기 및 위치에 따른 변수를 적용하여 변수해석을 진행하였고 결과를 비교분석하여, 구조적인 성능을 만족하여 안전성을 가지고 동시에 물량도 가장 절약할 수 있는 노드 Prototype을 결정하였다.

To reduce manufacturing costs of crystalline silicon solar cells, silicon wafers have become thinner. In relation to this, the properties of the aluminium-back surface field (Al-BSF) are considered an important factor in solar cell performance. Generally, screen-printing and a rapid thermal process (RTP) are utilized together to form the Al-BSF. This study evaluates Al-BSF formation on a (111) textured back surface compared with a (100) flat back surface with variation of ramp up rates from 18 to 89˚C/s for the RTP annealing conditions. To make different back surface morphologies, one side texturing using a silicon nitride film and double side texturing were carried out. After aluminium screen-printing, Al-BSF formed according to the RTP annealing conditions. A metal etching process in hydrochloric acid solution was carried out to assess the quality of Al-BSF. Saturation currents were calculated by using quasi-steady-state photoconductance. The surface morphologies observed by scanning electron microscopy and a non-contacting optical profiler. Also, sheet resistances and bulk carrier concentration were measured by a 4-point probe and hall measurement system. From the results, a faster ramp up during Al-BSF formation yielded better quality than a slower ramp up process due to temperature uniformity of silicon and the aluminium surface. Also, in the Al-BSF formation process, the (111) textured back surface is significantly affected by the ramp up rates compared with the (100) flat back surface.

국립수산과학원에서 지난 41년간(1968-2008년) 정선해양관측점에서 관측한 수층별 수온자료를 분석한 결과, 우리나라 동해, 서해 및 남해 해역의 표층수온은 상승하는 것으로 나타났다. 그러나 100m 수층의 경우 남해해역은 상승하지만 동해해역은 오히려 하강하는 것으로 나타났다. 남해 해역은 쿠로시오난류의 지류인 쓰시마난류의 강화로 인해 전 수층이 영향을 받으며, 따라서 전 수층에서 수온이 상승하는 경향을 만드는 원인이라 생각된다. 동해해역 100m 수층에서 수온하강의 경향은 주로 연안역의 하강 정도가 근해역의 상승정도보다 크게 나타나기 때문에 동해해역을 평균하면, 동해해역 전체적으로는 수온이 하강하는 것으로 나타났다. 동해해역 100m 수층에서 수온변동을 일으키는 요인으로 바람, 해류 등이 있으며, 본 연구에서 이 중 기상요소인 풍속의 변동과 수온변동에 대해서 분석하였다. 계절별로는 남해를 제외하고 동계의 상승률이 하계의 상승률보다 약 2배 이상 높게 나타나 장기적인 수온상승은 주로 동계의 수온 상승에 기인함을 알 수 있다. 남해의 경우 하계의 수온 상승률이 동계의 상승률보다 높게 나타나는데, 이는 쓰시마 난류의 세력 강화 및 중국대륙에서 유출되는 양자강수의 영향이라 생각된다. 우리나라 연안의 6개 관측점에서 관측한 기온과 풍속 자료 분석결과 점차적으로 기온이 상승하고 풍속이 약해지는 따뜻한 겨울이 되는 경향이 나타났다. 풍속의 약화는 해양에서 표면혼합층의 수심이 얕아지게 하는 원인이 되며, 표면혼합층의 두께가 얕아지게 되면 표층과 저층의 혼합 깊이가 얕아지게 되어 표층의 따뜻한 물이 저층으로 전달되는 양과 저층의 차가운 물이 표층으로 전달되는 양이 작아지게 된다. 따라서 표층의 수온은 점차 상승하게 되며, 예전 표면혼합층과 저층의 경계층 수온은 점차 낮아지게 된다.

본 연구의 목적은 재가치매노인에게 발생한 사고사례들의 조사를 통해 치매노인에게 위험요소로 작용 될 수 있는 요인들을 추출하고, 이를 바탕으로 치매노인 보호를 위해 고려해야 할 모니터링 요소의 결정에 필요한 기초 정보를 제공하고자 하는 것이다. 재가치매노인 55명(남자 16명, 여자 39명)을 대상으로 설문지를 이용하여 기본특성, 행동특성, 노인인지기능(Short form of Samsung Dementia Questionnaire: S-SDQ), 일상생활 수행능력(Activities of Daily Living: ADL), 사고사례를 조사하였다. 설문조사내용을 바탕으로 위험인자로 작용하는 요소들을 추출하고, 추출된 요소들의 발생빈도, 공발생빈도, 발생장소, 신체손상유무, 손상부위, 손상정도를 분석하였다. 그리고 행동특성, ADL, S-SDQ와 위험요소간의 발생빈도를 교차빈도분석을 통해 알아보았다. 분석결과 12개의 위험요소가 추출되었으며, 이 중 '나감'의 빈도가 가장 많았고, 신체적 손상이 발생한 위험요소는 넘어짐, 부딪힘, 미끄러짐, 떨어짐이었다. 공발생빈도 분석 결과, 넘어짐, 나감, 가스방화, 폭력이 다른 요인과 함께 발생하는 빈도가 높았다. 위험요소의 발생장소는 집주변이 가장 많았으며, 손상부위로는 무릎, 손상정도는 타박상이 가장 많았다. 교차빈도분석결과 위험요소의 발생빈도에 차이가 발생한 항목은 행동장애, 일상생활수행장애 그리고 ADL이였다. 행동장애와 일상생활수행장애의 정도에 따라 빈도의 차이를 보인 요인은 나감이었고, ADL의 정도에 따라 빈도의 차이를 보인 요인은 미끄러짐과 가스방화였다.

버섯산업의 활성화자료 제공과 버섯의 가정내 재배·학생들의 과학탐구용으로 사용키위해서 일반 가정주택의 실내에서 버섯류 재배가능성 검토의 일환으로 수행한 실험의 결과를 요약하면 다음과 같다. 가. 가정내 각실별 온ㆍ습도 측정결과는 세면실에서 64∼72%, 온도 20.2∼26.0℃로 상대적으로 거실, 부엌등 타실보다 버섯생육에 유리한 조건을 나타내었다 (1999. 4. 25∼7. 25). 나. 느타리버섯 상자재배에서 세면실의 경우 초발이소요일수는 3일, 수량은 2,060g, 회수율은 90％였다. 다. 느타리버섯 봉지볏짚재배에서 세면실의 경우 초발이소요일수는 2일, 수량은 90g, 회수율은 153％였다. 라. 느타리버섯 봉지톱밥재배에서 세면실의 경우 초발이소요일수는 4일, 수량은 770g, 회수율은 89％였다. 마. 영지버섯 봉지톱밥재배에서 세면실의 경우 초발이소요일수는 11일, 수량은 172g, 회수율은 16％, 중량감소율은 61％로 나타났다. 바. 본시험에서 수행한 4처리 모두 거실, 침실, 부엌에 비해 세면실에서의 생산된 버섯의 수량이 우수하였다. 사. 본 실험의 결과를 일부 기술하여 "내손으로 재배하는 가정버섯 효능과 활용법"이란 제목의 책자를 공동저술하였다 (장 등, 2003).

The electrical and thermal conductivity of W-Cu composites were investigated as a function of the W-particle size and W-W contiguity. Powder mixtures were prepared by ball milling or mechanical alloying process, and then sintered at various temperatures. The electrical conductivity of sintered composite was increased with decreasing W grain size. Dependence of electrical conductivity on the W grain size was explained by the W-W contiguity concept. The thermal conductivity was increased with increasing the temperature up to but decreased at the temperature above Also, thermal conductivity value was influenced by the W particle size. Change of thermal conductivity in W-Cu composites was discussed based on the observed microstructural characteristics and theoretical considerations.