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IS (요오드-황)프로세스의 HI 분해반응 공정에서의 적용을 목적으로 지르코니아 코팅 지지체를 이용하여 CVD법에 의해 수소분리막을 제작하였으며, 분리막으로서의 가능성을 평가하였다. 제작한 막의 형상 및 Si의 분포를 파악하기 위해 SEM 및 EPMA를 이용하여 분석하였다. 지르코니아를 코팅한 지지체를 이용하여 제작한 막에 Zr-Si-O층이 존재한다는 것을 알 수 있었다. 제작한 막의 수소와 질소가스의 단일 성분 투과속도를 300~600℃에서 측정하였다. 600℃에서 Z-1막에서의 수소투과속도는 1 × 10 -7 mol·Pa -1·m -2·s -1를 나타냈다. 질소에 대한 수소의 선택성은 Z-1 막에서 5.0, Z-2막에서 5.75를 나타냈다.
The hydrogen permselective membrane were prepared by chemical vapor deposition (CVD) aiming at the applications to hydrogen iodide decomposition in the thermochemical IS process, and it was evaluated for the possibility as a separation membrane. An electron probe X-ray microanalyzer (EPMA) and SEM picture were used to analyze the morphology and structure of the prepared membranes. It was confirmed that Zr-Si-O layer exist in the surface of the prepared membrane using zirconia coated support. Single-component permeance to H2 and N2 were measured at 300~600℃. Hydrogen permeance through the Z-1 membrane at a permeation temperature of 600℃ was about 1 × 10 -7 mol·Pa -1·m -2·s -1. The selectivities of H2/N2 at 600℃ were 5.0 and 5.75 for Z-1 and Z-2 membrane, respectively.
