산 증식형 포토레지스트 poly[ (4-methacryloyloxy-4’-tosyloxy isopropylidene dicyclohexane)-co-(tert-butyl metacrylate)]의 합성 및 특성 연구 - koreascholar

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산 증식형 포토레지스트 poly[ (4-methacryloyloxy-4’-tosyloxy isopropylidene dicyclohexane)-co-(tert-butyl metacrylate)]의 합성 및 특성 연구

Poly[(4-methacryloyloxy-4’-tosyloxy isopropylidene dicyclohexane)-co-(tert-butyl metacrylate)] as an acid amplifying photoresist

박정영, 이은주, 홍성수, 임권택, 정용석, 정연태

언어KOR
URLhttps://db.koreascholar.com/Article/Detail/281957

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한국화상학회지 (Journal of Korean Society for Imaging Science and Technology)

제8권 제1호 (2002.06)
pp.16-21

한국화상학회 (Korean Society for Imaging Science and Technology)

목차

Abstract
요 약
1. 서 론
2. 실 험
3. 결과
및 고찰
4. 결 론
참고문헌

저자

박정영(부경대학교 공과대학 화상정보공학부) | Jeong-Yeong Park
이은주(부경대학교 공과대학 화상정보공학부) | Eun-ju Lee
홍성수(부경대학교 화학공학부) | Seong-Soo Hong
임권택(부경대학교 공과대학 화상정보공학부) | Kwon-taek Lim
정용석(부경대학교 공과대학 화상정보공학부) | Yong-suk Jeong
정연태(부경대학교 공과대학 화상정보공학부) | Yeon-Tae Jeong

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