반구형 LPCVD 다결정 실리콘 박막의 구조 및 특성

박영진; 전하응; 이승석; 이석희; 우상호; 김종철; 박헌섭; 천희곤; 오계환

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반구형 LPCVD 다결정 실리콘 박막의 구조 및 특성 KCI 등재 SCOPUS

Structure and Properties of Hemispherical Grain LPCVD Polycrystalline Silicon Films

박영진, 전하응, 이승석, 이석희, 우상호, 김종철, 박헌섭, 천희곤, 오계환

언어KOR
URLhttps://db.koreascholar.com/Article/Detail/294553

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한국재료학회지 (Korean Journal of Materials Research)

제1권 제2호 (1991.08)
pp.77-85

한국재료학회 (Materials Research Society Of Korea)

초록

LPCVD(Low Pressure Chemical Vapor Deposition) System을 이용하여 여러가지 증착 변수에 따른 실리콘 박막의 표면형상에 대해 고찰하였다. 중착압력, 중착온도, 반응기체의 유속에 따라 증착층의 표면형상이 큰 변화를 나타냈으며, 증착압력과 반응기체의 유속이 증가할수록 유효면적이 최대가 되는 증착온도가 증가하였다. 이러한 실험결과는 안정한 핵의 생성률이 최대가 될때 유효표면적이 최대가 된다는 가정으로부터 유도된 식과 일치하는 결과를 나타냈다.

저자

박영진 | Park, Yeong-Jin
전하응 | 전하응
이승석 | 이승석
이석희 | 이석희
우상호 | 우상호
김종철 | 김종철
박헌섭 | 박헌섭
천희곤 | 천희곤
오계환 | 오계환

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