논문 상세보기

RF-magnetron Sputtering Process를 이용한 a-축 우선 배향된 PLZT(x/0/100)박막의 제조 KCI 등재 SCOPUS

Characterization and Preparation of a-axis Preferred Oriented PLZT(x/0/100) Thin Films Deposited by RF-magnetron Sputtering Process

  • 언어KOR
  • URLhttps://db.koreascholar.com/Article/Detail/295191
구독 기관 인증 시 무료 이용이 가능합니다. 4,000원
한국재료학회지 (Korean Journal of Materials Research)
한국재료학회 (Materials Research Society Of Korea)
초록

RF-magnetron Sputtering Process를 이용하여 Pt/Ti/Si(100)기판위에 lanthanum-modified lead titanate 박막을 제작하였다. 기판온도와 증착시간이 증가함에 따라 증착율은 감소하였다. 기판온도가 증가함에 따라 fine grain들은 large grain으로 변화하였다. Perovskite구조는 기판온도 540˚C, gas pressure 30mtorr에서 나타나기 시작하였다. 본 실험에서 perovskite 박막제작에 대한 조건은 기판온도 580˚C, gas pressure 30mtorr였다. Pt/Ti/Si(100) 우선 배향된 박막을 얻었다. La양이 증가함에 따라 유전율, 항전계, 잔류분극량은 증가하였다. 중심주파수가 44.7MHz, 전파속도는 2680m/sec를 가지는 SAW filter 특성을 얻었다.

저자
  • 박명식 | Park, Myeong-Sik
  • 강승국 | 강승국
  • 노광수 | 노광수
  • 김동범 | 김동범
  • 조상 | 조상