수직형 FHD증착법을 사용하여 SiO2, SiO2-P2O5, SiO2P2O5-B2O3-GeO2계 실리카 유리미립자를 형성하였으며, SEM, ICP-AES, XRD, TGA-DSC을 사용하여 그 특성을 분석하였다. XRD측정을 통해, 미립자 형성시 사용된 화염온도(1300˚C-1500˚C)와 기판온도(-200˚C)가 SiO2-P2O5계 미립자를 비정질상태로 형성하였으며, SiO2P2O5-B2O3와 SiO2P2O5-B2O3-GeO2계 미립자에서는 B2O3, BPO4, GeO2의 결정성피크들을 관찰하였다. TGA-DSC 열분석을 통해, SiO2와 SiO2-P2O5는 온도변화에 따른 질량변화가 없었으며, SiO2P2O5-B2O3-GeO2계의 경우 질량감소를 동반한 유리전이에 따른 분자이완현상 및 결정화나 회복반응을 나타내고 있다. 질량감소는 미립자가 결정상태일때 가속되는 경향을 나타냈으며, DSC열분석을 통해 SiO2, SiO2-P2O5, SiO2P2O5-B2O3-GeO2계 유리미립자들의 고밀화가 시작되는 온도를 각각 1224˚C, 1151˚C, 953˚C, 1130˚C에서 관찰하였다.