The phase stability of tetragonal phase in Y-TZP was investigated in terms of the distribution of grain sizes and heat-treating atmosphere. Y-TZP with various grain sizes were prepared using duration time at 1600℃ as experimental parameter. Accumulated grain size distributions were built from the SEM micrographs and the amount of tetragonal phase were measured using XRD. Both results were compared to determine the critical grain size before and after heat-treatment in vacuum. The critical grain size drastically decreased compared with the small increase of average grain size due to the autocatalytic effect which critically affects the tetragonal to monoclinic phase transformation. After heat-treatment in reductive atmosphere critical grain size relatively increased due to the stabilization of tetragonal phase. The formation of oxygen vacancies during heat-treatment was ascribed to the increase of stability.

Rf 마그네트론 반응성 스퍼터링법으로 RuO2박막을 Si 및 Ru/Si 기판 위에 증착한 뒤 산소 분위기 (1atm)에서 열처리를 하여 RuO2박막의 열적 안정성 및 확산방지 특성을 연구하였다. RuO2박막은 산소 분위기 700˚C에서 10분까지 안정하여, 산소와 실리콘에 대한 우수한 확산방지 특성을 나타내었다 750˚C 열처리시, 우선 성장 방위에 관계없이 RuO2박막 표면 및 내부에서 휘발 반응이 일어남과 동시에 확산방지 특성은 저하되었다. 그러나 800˚C 열처리 시에는 750˚C 열처리와는 다른 미세구조를 나타내었다. 이러한 열처리 온도에 따른 휘발반응에는 RuO2의 표면 결함구조인 RuO3와 증착시 박막내 함유된 과잉산소에 의한 결함 구조가 영향을 주는 것으로 판단된다.