정공 및 전자 수송층은 페로브스카이트 소자에서 효율 및 안정성을 증가시키는 중요한 역할을 하고 있다. 특히, NiO가 정공수송층 으로서 태양 전지 장치의 효율을 향상시키는 데 중요한 역할을 하는 것으로 알려져 있기 때문에 대부분의 연구자들이 태양 전지의 HTL(hole transport layer) 물질로서 NiO를 연구하고 있다. 본 연구는 NiO를 스크린 인쇄 및 스핀 코팅 방법으로 각각 제조 및 비교실험 하였으며, 서로의 특이점을 확인하고자 하였다. 실험결과 스크린 인쇄 기술로 10.65 %의 태양 전지 효율을 달성 한 반면 스핀 코팅 된 HTL로 18.61 % 효율을 달성했으며 또한 AFM 분석을 사용하여 HTL 층의 거칠기를 연 구하였다. 스크린 프린팅으로 형성된 필름의 불균일성으로 인해 HTL 필름에서 효율이 감소하는 것으로 밝혀졌다.

정공 수송 층 (HTL)은 PSC의 효율 및 안정성을 증가시키기 위해 페로브스카이트 태양 전지 (PSC)에서 중요한 역할을 한다. 본 연구에서, 우리는 PSCs에서 HTL 스핀 코팅 및 블레이드 코팅 방법으로 니켈 산화물 구리 산화물 (NiO-CuO) 나노 입자 (NPs) 박막을 준비하였다. 스핀 코팅 및 블레이드 코팅 된 NiO-CuO 필름의 필름 특성은 원자력 현미경 (AFM)을 사용하여 조사하었고, 장치 성능에 대한 효과는 J-V 특성, 양자 효율 및 광 강도의 Voc 의존성을 사용하여 조사하었다. 결과적으로, 스핀 코팅으로 15.28 % 효율, 블레이드 코팅으로 11.18 % 효율을 달성하였다.