정공 및 전자 수송층은 페로브스카이트 소자에서 효율 및 안정성을 증가시키는 중요한 역할을 하고 있다. 특히, NiO가 정공수송층 으로서 태양 전지 장치의 효율을 향상시키는 데 중요한 역할을 하는 것으로 알려져 있기 때문에 대부분의 연구자들이 태양 전지의 HTL(hole transport layer) 물질로서 NiO를 연구하고 있다. 본 연구는 NiO를 스크린 인쇄 및 스핀 코팅 방법으로 각각 제조 및 비교실험 하였으며, 서로의 특이점을 확인하고자 하였다. 실험결과 스크린 인쇄 기술로 10.65 %의 태양 전지 효율을 달성 한 반면 스핀 코팅 된 HTL로 18.61 % 효율을 달성했으며 또한 AFM 분석을 사용하여 HTL 층의 거칠기를 연 구하였다. 스크린 프린팅으로 형성된 필름의 불균일성으로 인해 HTL 필름에서 효율이 감소하는 것으로 밝혀졌다.

정공 수송 층 (HTL)은 PSC의 효율 및 안정성을 증가시키기 위해 페로브스카이트 태양 전지 (PSC)에서 중요한 역할을 한다. 본 연구에서, 우리는 PSCs에서 HTL 스핀 코팅 및 블레이드 코팅 방법으로 니켈 산화물 구리 산화물 (NiO-CuO) 나노 입자 (NPs) 박막을 준비하였다. 스핀 코팅 및 블레이드 코팅 된 NiO-CuO 필름의 필름 특성은 원자력 현미경 (AFM)을 사용하여 조사하었고, 장치 성능에 대한 효과는 J-V 특성, 양자 효율 및 광 강도의 Voc 의존성을 사용하여 조사하었다. 결과적으로, 스핀 코팅으로 15.28 % 효율, 블레이드 코팅으로 11.18 % 효율을 달성하였다.

본 연구는 1M Li2SO4 및 1M Na2SO4 수용액에서 CoSe 나노 입자의 전기 화학적 성능을 조사 하였다. CoSe 나노 입자의 전기 화학적 효율은 1M Na2SO4 전해질에서 더 높은 비정전 용량을 보여주는 결 과를 얻었고 이것은 주로 1M Na2SO4 용액의 벌크 전해질에서 수화 된 이온의 빠른 이동과 활물질에 의해 제공되는 낮은 전기 화학적 임피던스가 원인이라 사료된다. 또한, 순환 전압 전류법 안정성 실험에서 25 mV s-1의 스캔 속도로 1000 회 연속 순환 전압 전류 측정주기 후에도 각각 1M Na2SO4 및 1M Li2SO4에서 약 92 % 및 89 %의 특정 정전 용량의 유지를 보여주었다. 이 연구는 새로운 하이브리드 슈퍼 커패시터를 개발하기 위한 기초 데이터를 제공하며 비대칭 슈퍼 커패시터의 양극으로 사용될 수 있음을 시사한다.

표면 플라즈마 처리된 Cu nanoparticle (NPs)로 제작된 Organic photovoltaic (OPV)소자는 일잔 OPV 소자보 다 높은 효율성을 보여준다. Nps는 다양한 합성법으로 제조되어 29 nm의 지름을 가진 입자형태를 갖추었다. 이러한 Nps는 P3HT:PCBM과 결합하여 OPV 활성층으로 사용되었는데 적층방법으로 spin과 bar 코팅 방식을 사용하였다. 제작된 소자의 효율 평가에서 스핀코팅으로 제작된 P3HT:PCBM과 Nps가 결합된 P3HT:PCBM 이 각각 1.01과 4.39%로 Np의 효과로 인한 효율 증가를 볼 수 있었다. 바코팅 프로세스를 (8, 20, 50 um 갭)를 사용하였을 경우 20 um 갭의 바코터에서 스핀코터와 같은 두께의 활성층 두께를 보였다. 제작된 활성층은 바코터 그루브 특성으로 인해 트렌치 패턴이 형성되어 빛 흡수를 약화시켜 효율성을 저하시켰다.

본 연구에서는 각기 다른 두 제조사의 AgNW를 활용하여 스핀코팅 속도, 열처리 온도 및 방법 그리고 PDMS코팅 속도에 따른 AgNW/PDMS composite공정 연구를 실시하였다. 실험결과 peel off 특성에 영향을 미치는 인자로 건조방식이 주요하게 작용하며 공정온도 또한 전극 특성에 영향을 주었다. 핫플레이트를 사용한 건조방식은 한방향 열전달로 인해 PDMS를 충분히 건조시키지 못하였지만 오븐 건조를 통해 그 결점을 보완할 수 있었다. 또한, PDMS 코팅속도가 증가함에 따라 스트레처블 특성이 향상되었고 GF는 0.03에서 0.07로 약 100정도 향상되었다.

인쇄에서 종이의 인쇄적성은 인쇄품질을 결정하는 중요한 요소이며, 이를 보완하기 위해 많은 연 구들이 진행되어 왔다. 특히, 잉크젯에 의한 종이의 인쇄적성은 앞으로 전자융합산업의 발달을 고려해본 다면 더욱 주요한 연구가 될것이다. 따라서, 본 연구는 잉크젯 시스템에서 사용하는 CMYK 프로세스 잉 크의 인쇄적성을 파악하고 종이의 특성에 따라 색재현 정도를 ICC 프로파일값을 활용하여 분석하고자 하 였다. 잉크젯의 토출 특성을 이해하기 노즐에서의 잉크 유동을 시뮬레이션 하였고 종이의 재질이 다른 두 종(갱지 및 인화지)의 피인쇄체 위에 각기 다른 망점으로 인쇄하여 색재현 평가를 실시하였다. 각 종이의 관련 특징들 즉, 거칠음도, 투기도, 광택도 및 압축도,과 이에따른 색재현 특성을 ICC 프로파일모니터링에 쓰이는 ΔE값으로 표현하였다. 그 결과 상대적으로 종이의 낮은 거칠음도와 투기도 그리고 높은 압축력을 가지는 인화지에서 더 높은 색재현이 이루어짐을 알 수 있었다.

본 연구는 실리콘 잉크의 평판 오프셋 인쇄 적성에 관한 것이다. 전자 산업에서 실리콘 잉크는 전극 형성 과정에서 주로 사용되며 고해상도의 패턴을 재현하는 것이 요구된다. 오프셋 인쇄는 스크린 인쇄보다 패턴 형성을 빠르게 할 수 있다. 그래서, 오프셋 인쇄에서 실리콘 잉크의 레오로지적 특성들은 매우 중요하다. 실리콘 잉크를 IGT 인쇄적성 시험기로 인쇄된 인쇄물의 광학 농도, 잉크 전이량, 광택도 그리고 항복가를 측정하였다. 그 결과 실리콘 잉크를 오프셋 인쇄법으로 인쇄가 가능하다는 것을 발견 하였다. 광학 농도는 신문 용지에서 PDMS 잉크가 일반 오프셋 잉크보다 높았으며 10 poise의 PDMS에서 가장 높게 측정 된다. 실리콘 잉크의 오프셋 평판 인쇄가 가능하면 좀 더 빠른 속도로 방수인쇄나 전자인쇄의 목적으로 사용할 수 있을 것으로 생각한다.

롤 투 플레이트 시스템은 인쇄 전자에서 가장 경제적이고 효과적인 방법 중 하나이다. 본 논문에서는 롤 투 플레이트 시스템의 틈새출구에서 PDMS의 공동 변화가 유체 흐름의 어떠한 영향을 미치는지, 또 플레이트에 어떻게 전이되는가를 시뮬레이션을 통해 규명하였다. 실험은 IGT-C1 인쇄적성 실험기를 이용하여 전이율, 인쇄 밀도, 프린트 스루, 분할점 등과 같은 데이터를 측정하여, 컴퓨터 시뮬레이션 결과 값들과 비교 분석하였다. 컴퓨터 시뮬레이션은 Flow 모델을 뉴토니언 모델로 생성하여, Navier-Stokes 방정식을 기반으로 한 패키지 소프트웨어인 Polyflow와 Flow 3D로 시뮬레이션 하였고, 시뮬레이션 결과와 실험 결과는 잘 일치하였다.

Roll to roll system을 기반으로 한 인쇄 전자는 유기 박막 트렌지스터(OTFTs), 디스플레이 그리고 센서와 같은 장치를 제작하는데 유용하다. 그 중에서 그라비어 인쇄는 인쇄 전자에 가장 유망한 고속도 roll to roll 기술로서 자리매김하고 있다. 본 연구에서, 우리는 전통적으로 그라비어 인쇄에 사용되어 왔던 저점도 잉크의 단점, 즉 낮은 패턴 충실도와 전도성을 개선하고자 trench 패턴을 기반으로 한 그라비어 연구를 수행하였다. 특히, 미세패턴 형성을 위해 새로운 나노 입자의 실버 페이스트 잉크를 제작하였고 고점도 잉크가 trench로 잘 채워지지 않는 단점을 극복하기 위한 flooding 기술을 소개하였다. 또한, 이러한 환경에 맟는 doctoring 및 printing 조건들을 최적화 시키는 연구를 수행함으로서 printing reliability를 높이고자 하였다. 그 결과 line width 20 ㎛, 두께 2 ㎛ 그리고 resistivity가 1.3E-05 Ωcm인 균일한 패턴을 인쇄할 수 있었다.