본 연구는 실리콘 잉크의 평판 오프셋 인쇄 적성에 관한 것이다. 전자 산업에서 실리콘 잉크는 전극 형성 과정에서 주로 사용되며 고해상도의 패턴을 재현하는 것이 요구된다. 오프셋 인쇄는 스크린 인쇄보다 패턴 형성을 빠르게 할 수 있다. 그래서, 오프셋 인쇄에서 실리콘 잉크의 레오로지적 특성들은 매우 중요하다. 실리콘 잉크를 IGT 인쇄적성 시험기로 인쇄된 인쇄물의 광학 농도, 잉크 전이량, 광택도 그리고 항복가를 측정하였다. 그 결과 실리콘 잉크를 오프셋 인쇄법으로 인쇄가 가능하다는 것을 발견 하였다. 광학 농도는 신문 용지에서 PDMS 잉크가 일반 오프셋 잉크보다 높았으며 10 poise의 PDMS에서 가장 높게 측정 된다. 실리콘 잉크의 오프셋 평판 인쇄가 가능하면 좀 더 빠른 속도로 방수인쇄나 전자인쇄의 목적으로 사용할 수 있을 것으로 생각한다.

롤 투 플레이트 시스템은 인쇄 전자에서 가장 경제적이고 효과적인 방법 중 하나이다. 본 논문에서는 롤 투 플레이트 시스템의 틈새출구에서 PDMS의 공동 변화가 유체 흐름의 어떠한 영향을 미치는지, 또 플레이트에 어떻게 전이되는가를 시뮬레이션을 통해 규명하였다. 실험은 IGT-C1 인쇄적성 실험기를 이용하여 전이율, 인쇄 밀도, 프린트 스루, 분할점 등과 같은 데이터를 측정하여, 컴퓨터 시뮬레이션 결과 값들과 비교 분석하였다. 컴퓨터 시뮬레이션은 Flow 모델을 뉴토니언 모델로 생성하여, Navier-Stokes 방정식을 기반으로 한 패키지 소프트웨어인 Polyflow와 Flow 3D로 시뮬레이션 하였고, 시뮬레이션 결과와 실험 결과는 잘 일치하였다.

Roll to roll system을 기반으로 한 인쇄 전자는 유기 박막 트렌지스터(OTFTs), 디스플레이 그리고 센서와 같은 장치를 제작하는데 유용하다. 그 중에서 그라비어 인쇄는 인쇄 전자에 가장 유망한 고속도 roll to roll 기술로서 자리매김하고 있다. 본 연구에서, 우리는 전통적으로 그라비어 인쇄에 사용되어 왔던 저점도 잉크의 단점, 즉 낮은 패턴 충실도와 전도성을 개선하고자 trench 패턴을 기반으로 한 그라비어 연구를 수행하였다. 특히, 미세패턴 형성을 위해 새로운 나노 입자의 실버 페이스트 잉크를 제작하였고 고점도 잉크가 trench로 잘 채워지지 않는 단점을 극복하기 위한 flooding 기술을 소개하였다. 또한, 이러한 환경에 맟는 doctoring 및 printing 조건들을 최적화 시키는 연구를 수행함으로서 printing reliability를 높이고자 하였다. 그 결과 line width 20 ㎛, 두께 2 ㎛ 그리고 resistivity가 1.3E-05 Ωcm인 균일한 패턴을 인쇄할 수 있었다.