FTIR (Fourier Transform Infrared) and Raman spectra of KJ-II bentonite provided by Clariant Korea were compared with those of MX-80 bentonite. The FTIR spectra were obtained using a Nicolet 5 FTIR spectrometer (Fisher Scientific) equipped with a diamond ATR (Attenuated Total Reflection) module. The spectra were collected for 64 scans with a resolution of 4 cm−1. Raman spectra were obtained using an optical microscope (Olympus, BX43) and a spectrometer (Andor, SR- 500). The laser beam was focused using an objective lens with a magnifying power of 50. The backscattered light from the sample was collected into an optical fiber with a core diameter of 0.4 mm. The Raman signals were recorded with CCDs (Andor, DV401A-BV for 532 nm laser wavelength and DV420A-OE for 638 and 785 nm laser wavelengths). Each pixel of CCD received the signal for 1 s and its 1000 times accumulated data were collected. The FTIR spectra of the two bentonite samples are very similar. The FTIR spectra of both bentonites showed absorption bands at 3623, 3399, 3231 cm−1 in the higher wavenumber region and at 1637, 1443, 1117, 997, 914, 887, 847, 797, 611, 515, 414 cm−1 in the lower wavenumber region. A sharp band at 3623 cm−1 and the strong band at 997 cm−1 correspond to the OH stretching of structural hydroxyl groups and the Si-O stretching vibration, respectively. In addition to these clear bands, several absorption bands observed in this experiment are well matched with the results reported in various literatures. Unlike the FTIR spectrum, it is not easy to observe the Raman bands of bentonite. The reason is that strong fluorescence interferes with the Raman spectrum. The two bentonite samples showed different fluorescence intensities. In the case of MX-80 bentonite, no clear Raman band was observed due to the influence of very strong fluorescence. KJ-II bentonite showed a relatively weak fluorescence intensity and Raman bands were partially visible at around 147, 260, 397, 709, and 1279 cm−1. In particular, the band at 1279 cm−1 is wide and sturdy. It was observed that the non-powder samples showed a better quality spectra. The Raman characteristics of KJ-II bentonite, which depend on the incident laser wavelength and the sample pretreatment, are discussed in detail.

고압 환경에서 규산염 용융체의 원자 구조에 대한 정보는 지구 내부 마그마의 열전도율이나 주변 암석과의 원소 분배계수와 같은 이동 물성을 이해하는 단서를 제공한다. 규소의 전자 구조는 규산염 다면체 주 변의 산소 원자 분포와 연관성을 가질 것으로 예상되나, 이 사이의 상관관계가 명확하게 밝혀져 있지 않다. 본 연구는 SiO2의 고밀도화에 따른 규소의 전자 구조 변화의 미시적인 기원을 규명하기 위해 SiO2 동질이상 의 규소 부분 상태 밀도와 L3-edge X-선 흡수분광분석(X-ray absorption spectroscopy; XAS) 스펙트럼을 계산 하였다. 규소의 전도 띠 영역에서 전자 구조는 결정 구조에 따라서 변화하였다. 특히 d-오비탈은 108, 130 eV 영역에서 배위 환경에 따른 뚜렷한 차이를 보였다. 계산된 XAS 스펙트럼은 규소 전도 띠의 s,d-오비탈에서 기인하는 피크를 보였으며, 결정 구조에 따라 s,d-오비탈과 유사한 양상으로 변화했다. 계산된 석영의 XAS 스펙트럼은 SiO2 유리의 X R S 실험 결과와 유사하였으며 규소 주변 원자 환경이 비슷하기 때문으로 생각된 다. XAS 스펙트럼을 수치화한 무게 중심 값은 Si-O 결합 거리와 밀접한 상관관계를 가지며 이로 인하여 고 밀도화 과정에서 체계적으로 변화한다. 본 연구의 결과는 Si-O 결합 거리에 민감한 규소 L2,3-edge XRS가 규 산염 유리 및 용융체의 고밀도화 기작을 규명하는 과정에서 유용하게 적용될 수 있음을 지시한다.

SiO2는 지각과 맨틀을 구성하는 풍부한 물질로 고압 상태의 SiO2 원자구조를 결정짓는 전자구 조적 특성에 대한 상세한 이해는 지구 내부의 탄성과 열역학적 성질에 대한 통찰을 제공한다. SiO2처 럼 경원소(low-z)로 이루어진 지구 물질의 고압상 전자구조는 in situ 고압 XRS (x-ray Raman scattering) 실험을 통해 연구되어 왔다. 하지만 기존의 고압 실험 방법으로는 물질의 국소 원자구조와 XRS 스펙트럼 간 상관관계를 밝히는데 한계가 있다. 이를 극복하고 더 높은 압력에서 존재하는 SiO2 에 대한 XRS 정보를 얻기 위해 밀도 범함수 이론(density functional theory; DFT)에 기반을 둔 제1원 리(ab initio) 계산법을 이용한 XRS 스펙트럼 계산 연구들이 진행되고 있다. 비탄성 X-선 산란에 의하 여 원자핵 주변 1s 오비탈에 만들어지는 전자-정공(core-hole)은 경원소 물질의 국소 전자구조에 크게 영향을 미치기 때문에 O K-edge XRS 스펙트럼 형태를 계산할 때 중요하게 고려해야 한다. 본 연구에서는 온-퍼텐셜 선형보충파(full-potential linearized augmented plane wave; FP-LAPW) 방법 론에 기반하는 WIEN2k 프로그램을 사용하여 α-quartz, α-cristobalite 그리고 CaCl2-구조를 갖는 SiO2 에 대한 O 원자 전자 오비탈의 부분 상태밀도(partial density of states; PDOS)와 O K-edge XRS 스펙 트럼을 계산하였다. 또한, CaCl2-구조를 갖는 SiO2의 O 원자 PDOS의 전자-정공 효과의 적용 여부에 따른 차이를 비교하여, 원자핵 부근 전자구조 변화에 따른 PDOS의 피크 세기와 위치 변화가 크게 나 타났다는 사실을 확인할 수 있었다. 또한 계산된 각 SiO2 구조의 O K-edge XRS 스펙트럼이 각 SiO2 구조에서 계산된 O 원자의 p* 오비탈의 PDOS 결과와 매우 유사한 형태를 갖고 있음을 확인하였다. 이는 O K-edge XRS 스펙트럼이 갖는 대부분의 특징적인 피크들이 O 원자의 점유 1s 오비탈에서 2p* 오비탈로의 전자전이에 기인하기 때문이다. 본 연구의 결과는 SiO2에 대한 정확한 O K-edge XRS 스 펙트럼을 계산하는데 있어 전자-정공 효과를 고려해야 한다는 사실을 보여준다. 또한, 실험적으로는 재현이 어려운 고압 환경에 존재하는 CaCl2-구조를 갖는 SiO2 (~63 GPa)에 대한 O K-edge XRS 스펙 트럼 계산을 통해, 제1원리 계산이 고압상 물질의 물성 연구에 이용될 수 있다는 사실을 보여준다.