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(100) 실리콘의 깊은 이등망성 식각시 석각면의 가장자리에 존재하는 불균일성의 짤막한 고찰 KCI 등재 SCOPUS

Short Consideration on the Non-Uniformities Existing at the Etched-edges in Deep Anisotropic Etching of(100) Silicon

  • 언어KOR
  • URLhttps://db.koreascholar.com/Article/Detail/294623
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한국재료학회지 (Korean Journal of Materials Research)
한국재료학회 (Materials Research Society Of Korea)
초록

(100) 실리콘 기판에 대해 깊온 비등방성 식각을 행한 경우 식각면의 가장자리에 존재하는 욜균일성은 식각 계면의 격자결함과 기계적 응력에 의한 것임을 판찰할 수 있었다.

저자
  • 주병권 | Ju, Byeong-Kwon
  • 하병주 | 하병주
  • 김철주 | 김철주
  • 오명환 | 오명환
  • 차균현 | 차균현