국내에서 육성된 딸기 품종인 '매향' 및 '설향'을 대상으로 비가림 포트 육묘 시 자묘 적엽에 따른 묘소질과 개화 및 수량에 미치는 영향을 조사하였다. 딸기 연결 포트에 자묘 받기를 완료한 후 7월 하순부터 정식 전까지 10일 간격으로 4~5회에 걸쳐 완전히 전개된 엽을 기준으로 2매, 3매, 4매를 남기고 적엽하였고 대조구로 무적엽구를 두어 실험을 수행하였다. 적엽의 강도가 강할수록 엽병장이 감소하여 자묘의 도장을 억제시킬 수 있었다. 관부 외경은 적엽 처리구에서 유의하게 감소하였으나 관부 내경은 유의한 차이가 없었다. 1차 근수는 3매 또는 4매 적엽 처리구에서 전반적으로 증가하는 경향을 보였지만 처리구 간에 유의한 차이는 없었다. 생체중, 엽면적은 적엽 처리구에서 유의하게 감소하였고 근중은 일부 3매 또는 4매 적엽 처리구에서 높게 나타났으나 처리구간에 유의한 차이를 보이지 않았다. 적엽은 지하부에 비해서 지상부의 생육을 억제하여 증산량 감소에 의한 정식 후 활착이 보다 용이할 것으로 생각된다. 엽록소 함량의 경우 적엽의 강도가 강할수록 유의하게 감소하는 경향을 보였는데, 적엽 시 체내 질소를 효과적으로 감소시킴으로 서 저온 단일 조건에서의 화아분화를 촉진하고 포장내 균일한 개화를 유도하였다. 상품과 수량은 3매 적엽 처리구에서 무적엽 처리구에 비하여 높은 경향을 보였다.

TiAlN films were deposited on WC-5Co substrates with different buffer layers by D.C. magnetron sputtering. The films were evaluated by microstructural observations and measuring of preferred orientation, hardness value, and adhesion force. As a process variable, various buffer layers were used such as TiAlN single layer, TiAlN/TiAl, TiAlN/TiN and TiAlN/CrN. TiAlN coating layer showed columnar structures which grew up at a right angle to the substrates. The thickness of the TiAlN coating layer was about 1.8μm, which was formed for 200 minutes at 300˚. XRD analysis showed that the preferred orientation of TiAlN layer with TiN buffer layer was (111) and (200), and the specimens of TiAlN/TiAl, TiAlN/CrN, TiAlN single layer have preferred orientation of (111), respectively. TiAlN single layer and TiAlN/TiAl showed good adhesion properties, showing an over 80N adhesion force, while TiAlN/TiN film showed approximately 13N and the TiAlN/CrN was the worst case, in which the layer was destroyed because of high internal residual stress. The value of micro vickers hardness of the TiAlN single layer, TiAlN/TiAl and TiAlN/TiN layers were 2711, 2548 and 2461 Hv, respectively.