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        1.
        2015.12 구독 인증기관 무료, 개인회원 유료
        교류형 플라즈마 디스플레이에서 기입기간 중 방전지연시간을 단축시키기 위하여 공통전극에 추가펄스 인가 하였을 때의 플라즈마 방전이 시뮬레이션 되고 기입 광파형이 측정되었다. AC PDP의 초기화 기간 동안 셀 내부에는 벽전하가 쌓이고 그것들은 기입 기간에 주사와 기입펄스에 의해 기입방전을 트리거링 시키기 위하여 이용되어진다. 그러나 종래에는 공통전극에는 DC 바이어스 전압에 의해 음의 전하는 기입방전에 이용되지 못하므로 방전지연시간 의 단축은 한계가 있다. 만약 주사와 기입전극의 전하뿐만 아니라 공통전극의 음의 전하를 이용한다면 방전지연시간 은 단축될 것이고 이를 확인하기 위하여 기입기간 동안 3 전극에 펄스가 모두 인가될 때, 진공 자외선을 발생시키는 Xe 3P2 의 에너지 상태가 시뮬레이션 되었다. 또한 종래의 구동방법과 공통 전극에 추가 펄스를 인가한 경우에 기입 방전의 광파형의 단축을 각각 측정되었다.
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        2.
        2014.12 구독 인증기관 무료, 개인회원 유료
        AC PDP의 부화면 시간동안 기입 방전의 시간지연을 각각 조사하였고 기입방전 마진 범위 내에서 추 가 주사전압의 높이를 변화하여 전체 부화면 시간동안 기입방전 시간을 단축시킨다. 첫번째 초기화 기간 동안 높은 상승 경사파 전압이 주사전극에 인가되어 초기화 방전이 발생하고 셀 내부에서 벽전하를 생성한다. 생성된 벽전하는 기입전압과 더해져서 기입 방전을 일으킨다. 첫 번째 부화면 시간에는 초기화 기간 동안 상승 경사파를 갖는 높은 전압에 의해 벽전하가 많이 존재하므로 첫 번째 기입 방전은 다른 부화면 시간보다 빠르게 형성된다. 한편, 두 번째부터 마지막 부화면 시간까지의 기입 방전 생성시간은 셀 내의 벽전하 소멸에 의하여 점차적으로 늦어진다. 본 연구에서는 각 부화면 시간동안 기입방전의 시간지연을 조사하였고, 부화면 시간의 기입기간 마다 추가 주사전압을 다르게 인가하여 전체 기입방전 지연시간을 단축시키는 방법을 제시한다.
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        3.
        2013.12 구독 인증기관 무료, 개인회원 유료
        AC PDP의 Vt 폐곡선 측정에 의하여 개방형 유전체 구조에서 방전 전압과 내부 벽전압 등의 방전 특성이 종래의 구조와 비교되어 조사되었다. 개방형 유전체 구조는 상판 전극사이의 유전체를 없애서 유지 전극간의 방전이 더욱 쉽게 발생하도록 하는 구조이다. 개방형 유전체 구조에서 상판의 두 전극인 주사와 유지전극 간 방전 개시전압이 종래의 구조와 다르기 때문에 종래의 기입파형을 포함한 초기화 파형도 수정되어져야 한다. Vt 폐곡선 분석에 기초하여 개방형 유전체 구조에 적합한 수정된 구동파형이 제안되었고 42인치 AC PDP에서 실험되었다.
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        4.
        2012.12 구독 인증기관 무료, 개인회원 유료
        교류형 플라즈마 디스플레이의 기입기간 중에 공통전극에서의 파형 변화에 따른 광특성을 조사하고 방전특성을 향상시킬 수 있는 최적의 조건을 조사하였다. ACPDP에서구동방식에서 각 서브프레임은 초기화, 기입, 유지기간으로 나누어지는데, 초기화기간 이후 상판의 두 전극에는 음전하가 쌓이게 되고 하판의 기입전극에는 양전하가 쌓인다. 기입기간에 종래의 구동방법에서는 주사 및 기입펄스에 의해 초기화 기간에 쌓인 벽전하를 이용하여 기입방전을 발생시키는데, 본 연구에서는 기입기간 중 공통전극에도 펄스를 인가하여 펄스의 높이 및 인가시각에 따른 기입광파형을 각각 측정하였고그 결과 최적의 조건하에서 기입방전 시간을 종래의 방법보다 약 200ns 단축시켰다.
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        5.
        2011.09 구독 인증기관 무료, 개인회원 유료
        주위의 빛을 감지하는 CDS 광센서가 포함된 LED 백라이트 시스템을 이용하여 주위조명이 밝을 때는 꺼지고 어두울 때 켜지는 빛 감지형 액자를 개발하였다. LED 백라티으 회로를 삽입할 수 있도록 액자 내부에 충분한 공간을 두었으며 액자의 테두리는 LED 백라이트의 조명외 불필요한 사이드 빛을 가릴 수 있도록 액자를 제작하였다. LED 백라이트 시스템의 경우, 이상적인 경우 밝을 때는 0의 저항값을 가지고 어두울 때는 무한대의 저항값을 가지는 특성을 갖고 있는 CDS 광센서를 고속 스위칭 트랜지스터 베이스 단자에 연결하여 on / off 동작을 할 수 있도록 설계하였다. 직렬 및 병렬로 3×3의 배열로 연결된 9개의 LED들은 3개의 anodesms 전원에, 3개의 cathode는 트랜지스터의 컬렉터에 연결하여 on시에는 cathode가 접지와 연결되어 LED가 동작하였고, off시에는 floating상태가 LED가 동작하지 않았다. 밝은 조명하에서는 센서에 의해 LED 백라이트가 동작하지 않았고 어두울 때는 정상적으로 동작함을 확인하였다.
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        6.
        2011.03 구독 인증기관 무료, 개인회원 유료
        교류형 플라스마 디스플레이에서 고정된 기입전압 및 기입시간 내에서 기입 방전특성 향상 및 화면 셀에서의 플라스마 방전을 성공시키기 위해서 각 라인의 주사 펄스를 중첩시키는 중첩 주사파형 및 그의 구동회로를 제안한다. 플라스마 디스플레이에서 기입기간 동안 한 펄스의 인가 시간이 길어지면 기입 방전이 펄스폭 내에 안정적으로 발생하고 벽전하가 많이 쌓이게 되어 저전압 및 고속구동이 가능하지만 전체 시간은 정해져 있으므로 시간을 무한정 늘릴 수 없다. 만약 고정된 기입기간 내에서 주사 파형의 펄스폭을 늘이고 그것을 중첩시킨다면 제한된 짧은 기입시간 조건하에서 플라스마 방전이 안정적으로 발생할 수 있다. 그러나 종래의 주사 구동 방법에서는 기입기간 동안 주사전압과 기입전압이 동시 인가되어 기입 방전이 발생되고 주사파형은 순차적으로 하나의 파형인가가 끝나면 다음 파형이 인가되기 때문에 종래의 구동방법으로는 중첩파형을 만들기가 불가능하다. 제안된 중첩주사 구동방법은 주사 드라이버에서 주사 IC의 동작을 홀수와 짝수로 나누어서 주사파형의 중첩이 가능하도록 했으며, 그 결과 동일 기입시간 내에서 플라스마 방전이 안정적으로 발생하였고 최소 기입전압을 약 10V 감소시킬 수 있었다.
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        7.
        2011.03 구독 인증기관 무료, 개인회원 유료
        교류형 플라스마 디스플레이에서 Vt 폐곡선이라는 3 전극의 벽전압 분석에 의해 셀 내부의 벽전하 상태를 측정하고 Vt 폐곡선을 이용하여 구동파형에 따른 오방전의 발생하는 원인을 유도한다. 플라스마 디스플레이는 셀 내부에서 플라스마 방전에 의해 화면을 표시하는 소자이고, 플라스마 방전에 의해 각 전극에 쌓여진 벽전하는 외부 인가전압과 별도로 셀 내부에 전극 간의 벽전압을 형성한다. 교류형 플라스마디스플레이의 전극은 일반적으로 3개이기 때문에 셀 내부의 벽전하 상태를 측정하는 것은 어려우나 Vt 폐곡선이라는 벽전압 분석 법을 이용하면 셀 내부의 상태를 예측할 수 있다. 본 논문은 먼저 Vt 폐곡선의 모양, 외부 인가전압에 대한 전압 벡터, 측정방법 등에 대하여 소개를 하고, 플라스마 디스플레이의 종래와 테스트 구동파형에서 초기화 기간의 하강 경사파 전압에 따른 Vt 폐곡선을 각각 그린다. 초기화 기간 중 최종 전압을 종래보다 많이 낮게 인가한 테스트 구동 파형에서 발생하는 오방전의 원인을 측정된 Vt 폐곡선에 의해 발견할 수 있다.
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        10.
        2008.06 KCI 등재 SCOPUS 구독 인증기관 무료, 개인회원 유료
        The purpose of this study is to characterize various electrolytes on electrochemical mechanical planarization (ECMP). The ECMP system was modified from conventional CMP system to measure the potentiodynamic curve and removal rate of Cu. The potentiodynamic curves were measured in static and dynamic states in investigated electrolytes using a potentiostat for the evaluation of the polishing behavior on ECMP. KOH (alkaline) and NaNO3 (salt) were selected as electrolytes which have high conductivity. In static and dynamic states, the corrosion potential decreased and the corrosion current increased as a function of the electrolyte concentration. But, the electrochemical reaction was prevented by mechanical polishing effect in the dynamic state. The static etch and removal rate were measured as functions of concentration and applied voltage. When NaNO3 was used, the dissolution was much faster than that of KOH. It was concluded that the removal rate was strongly depended on electrochemical dissolution. The removal rate increased up to 350 nm/min in NaNO3 based electrolyte.
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