본 연구는 실리콘 잉크의 평판 오프셋 인쇄 적성에 관한 것이다. 전자 산업에서 실리콘 잉크는 전극 형성 과정에서 주로 사용되며 고해상도의 패턴을 재현하는 것이 요구된다. 오프셋 인쇄는 스크린 인쇄보다 패턴 형성을 빠르게 할 수 있다. 그래서, 오프셋 인쇄에서 실리콘 잉크의 레오로지적 특성들은 매우 중요하다. 실리콘 잉크를 IGT 인쇄적성 시험기로 인쇄된 인쇄물의 광학 농도, 잉크 전이량, 광택도 그리고 항복가를 측정하였다. 그 결과 실리콘 잉크를 오프셋 인쇄법으로 인쇄가 가능하다는 것을 발견 하였다. 광학 농도는 신문 용지에서 PDMS 잉크가 일반 오프셋 잉크보다 높았으며 10 poise의 PDMS에서 가장 높게 측정 된다. 실리콘 잉크의 오프셋 평판 인쇄가 가능하면 좀 더 빠른 속도로 방수인쇄나 전자인쇄의 목적으로 사용할 수 있을 것으로 생각한다.

Among the various roll-to-roll printing technologies such as gravure, gravure-offset, and reverse offset printing,reverse offset printing has the advantage of fine patterning, with less than 5µm line width. However, it involves complexprocesses, consisting of 1) the coating process, 2) the off process, 3) the patterning process, and 4) the set process of the ink.Each process demands various ink properties, including viscosity, surface tension, stickiness, and adhesion with substrate orcliché; these properties are critical factors for the printing quality of fine patterning. In this study, Ag nano ink was developedfor reverse offset printing and the effect of polyvinylpyrrolidone(PVP), used as a capping agent of Ag nano particles, on theprinting quality was investigated. Ag nano particles with a diameter of ~60nm were synthesized using the conventional polyolsynthesis process. Ethanol and ethylene glycol monopropyl ether(EGPE) were used together as the main solvent in order tocontrol the drying and absorption of the solvents during the printing process. The rheological behavior, especially ink adhesionand stickiness, was controlled with washing processes that have an effect on the offset process and that played a critical rolein the fine patterning. The electrical and thermal behaviors were analyzed according to the content of PVP in the Ag ink. Finally,an Ag mesh pattern with a line width of 10µm was printed using reverse offset printing; this printing showed an electricalresistivity of 36µΩ·cm after sintering at 200oC.