목적 : 본 연구는 흡연과 안압의 직접적인 연관성을 확인하고자 하였다. 또한, 흡연 시 연기로 인한 눈물막의 안정성을 평가하기 위하여 눈물막 파괴시간도 함께 조사하였다. 방법 : 연구대상자는 최근 안과질환이 없으며, 흡연을 하고 있는 남자 22명과 여자 2명으로 구성된 24명이 선정되었다. 안기능 검사로는 동공크기, 안압, 조절력, 눈물막 파괴시간을 측정하였다. 모든 검사값은 3회 측정한 평균값을 사용하였으며, p<0.050일 때 통계적으로 유의하다고 판단하였다. 결과 : 동공크기는 흡연 전과 흡연 후 유의한 차이가 나타나지 않았다. 안압은 양안평균 흡연 전(14.17 mmHg) 보다, 흡연 후(15.79 mmHg)가 유의하게 상승하는 결과를 보였으며, 조절력은 양안평균 흡연 전(9.63 D)보다 흡연 후(9.15 D)로 유의하게 감소하였다. 눈물막 파괴시간은 오른쪽 눈은 흡연 전(8.00 s)에서 흡연 후(7.35 s) 유의하게 감소하였고, 왼쪽 눈은 흡연 전(6.92 s)에서 흡연 후(6.81 s) 감소하였으나 유의한 차이를 보이지 않았다. 결론 : 본 연구에서 흡연과 안압은 유의미한 양의 상관관계가 있음을 보였으며, 눈물막 파괴시간의 단축이 뚜렷했던 우안에서 좌안보다 높은 안압상승이 확인되었다. 이 결과로 미루어 볼 때 흡연은 안압 상승과 밀접한 관련이 있으며, 흡연으로 유발된 눈물막의 불안정성은 안압상승에 추가적인 영향을 끼친다고 할 수 있다.

화학적 산화막(SiOx)이 형성된 Si(100)기판 위에 Co-silicide의 형성과 계면 형상에 관한 연구를 하였다. 화학적 산화막은 과산화수소수(H2O2)의 인위적 처리에 의해 약 2nm을 형성시켰다. 그 위에 5nm 두께의 Co 박막을 전자빔 증착기에 의해 증착시킨 후 열처리하여 Co-silicide를 형성하였다. 화학적 산화막 위에서 Co-silicide 반응기구를 알아 보기 위해 500˚C-900˚C의 온도 범위에서 ex-situ와 in-situ 열처리를 하였다. 이와같이 형성된 Co-silicide 시편의 상형성, 표면 및 계면 형상, 그리고 화학적 조성을 XRD, SEM, TEM, 그리고 AES를 이용하여 분석하였다. 분석 결과 es-situ 열처리시 700˚C까지 CoSi2 상은 형성되지 않았고 Co의 응집화현상이 일어났다. 800˚C 열처리한 경우에는 CoSI2가 형성되었고 facet 현상이 크게 나타났으며 불연속적인 grain 들이 형성되었다. In-situ 열처리한 경우에는 저온에서 (550 ˚C)반응하여 Co-silicide가 형성되기 시작하였으며 600˚C부터는 facet에 의해 박막의 특성이 나빠지기 시작했다. 550˚C에서 Co가 화학적 산화막 층을 통해 확산하여 균질한 Co-silicide를 형성하였다. 이와같이 형성된 균질한 실리사이드 층을 이용하여 다단계(550˚C-650˚C-800˚C)열처리에 의해 균질한 다결정 CoSI2의 형성이 관찰되었다.