The surface of silicon dummy wafers is contaminated with metallic impurities owing to the reaction with and adhesion of chemicals during the oxidation process. These metallic impurities negatively affect the device performance, reliability, and yield. To solve this problem, a wafer-cleaning process that removes metallic impurities is essential. RCA (Radio Corporation of America) cleaning is commonly used, but there are problems such as increased surface roughness and formation of metal hydroxides. Herein, we attempt to use a chelating agent (EDTA) to reduce the surface roughness, improve the stability of cleaning solutions, and prevent the re-adsorption of impurities. The bonding between the cleaning solution and metal powder is analyzed by referring to the Pourbaix diagram. The changes in the ionic conductivity, H2O2 decomposition behavior, and degree of dissolution are checked with a conductivity meter, and the changes in the absorbance and particle size before and after the reaction are confirmed by ultraviolet-visible spectroscopy (UV-vis) and dynamic light scattering (DLS) analyses. Thus, the addition of a chelating agent prevents the decomposition of H2O2 and improves the life of the silicon wafer cleaning solution, allowing it to react smoothly with metallic impurities.

본 연구에서는 순수와 유사한 밀도의 세척형 구형 입자를 제작하고 순수 수조 내에서 산기량 및 입자 농도에 따른 입자의 유동 속도를 측정하였다. 세척형 구형 입자 1~3%를 MLSS 8,000 mg/L인 활성슬러지 용액에 주입하고 20 LMH 및 산기량 500 mL/min 조건에서 FR 및 SFCO 모드로 동시에 투과 실험하였다. 사용한 분리막은 유효 막면적이 90 cm2, 공칭 세공크기가 0.4 μm인 평막이다. 입자 농도가 증가할수록 TMP가 감소하였으며 FR 모드, 입자 농도 2%일 때 가장 효과적 인 것으로 확인되었다.

현 국제해사기구(IMO)에서의 선박엔진에서 발생되는 NOx와 SOx 등의 연소 가스 배출에 대한 규제 강화에 따라, 발트 해 연안을 지나는 모든 선박들은 배출되는 연소가스 저감장치를 장착해야 된다. 국내에서도 IMO의 규제에 따른 NOx와 SOx를 저감장치를 개발하고 있으며, 그중에 대표적인 장 치인 Scrubber는 세정액으로 암모니아수와 요소수를 사용하게 되고 사용된 폐 세정액에는 NOx와 SOx 와 반응한 질산암모늄과 황산암모늄이 포함되어 있다. 본 연구에서는 폐 세정액이 포함하고 있는 유용한 부산물을 유기용매를 사용하는 염석법을 적용하여 회수하였다. 질산암모늄과 황산암모늄의 회수방법과 질안석회를 추출 후 회수된 부산물의 정성분석을 위하여, FT-IR 분석을 통하여 물질의 정성적 특성과 화학적 조성을 평가해 보았다. 한편 응집제를 투입하여 질안석회를 침전시켜 비료상의 물질로 회수하였 다. FeSO4 응집제와 CaCl2를 응집보조제로 사용하고 입자의 크기를 키우기 위해 CaCO3를 사용하였다.

We investigated cleaning effects using NH4OH solution on the surface of Cu film. A 20 nm Cu film was deposited on Ti / p-Si (100) by sputter deposition and was exposed to air for growth of the native Cu oxide. In order to remove the Cu native oxide, an NH4OH cleaning process with and without TS-40A pre-treatment was carried out. After the NH4OH cleaning without TS-40A pretreatment, the sheet resistance Rs of the Cu film and the surface morphology changed slightly(δRs:~10mΩ/sq.). On the other hand, after NH4OH cleaning with TS-40A pretreatment, the Rs of the Cu film changed abruptly (δRs:till~700mΩ/sq.); in addition, cracks showed on the surface of the Cu film. According to XPS results, Si ingredient was detected on the surface of all Cu films pretreated with TS-40A. This Si ingredient(a kind of silicate) may result from the TS-40A solution, because sodium metasilicate is included in TS-40A as an alkaline degreasing agent. Finally, we found that the NH4OH cleaning process without pretreatment using an alkaline cleanser containing a silicate ingredient is more useful at removing Cu oxides on Cu film. In addition, we found that in the NH4OH cleaning process, an alkaline cleanser like Metex TS-40A, containing sodium metasilicate, can cause cracks on the surface of Cu film.

콘택트렌즈 단백칠 침전물의 양은 착용하는 콘택트렌즈의 재질과 사용하는 관리용 액의 종류에 따라서 크게 다를 수 있다. 따라서 본 연구에서는 인공눈물을 이용한 m vitro 방법으로 Group 1, Group III, Group IV 의 소프트콘택트렌즈에 단백질 침전물 을 오염시킨 후 계면활성세척액과 다목적용액을 사용하여 콘택트렌즈뜰 세척하고 콘 택트렌즈에 남아있는 단백질을 Bradford 법으로 처리하여 다음과 같은 결과륜 얻었다. 세척 후 남아있는 단백질 침전물은 Group IV 렌즈가 Group 1 렌즈보다 16 레 이상 많았으며， 모든 재질의 렌즈에서 계면활성서l 척액은 다목적용액보다 세척효과가 우수힌 것으로 나타나 다목적용액으로 Group IV 렌즈틀 세착한 경우에는 계떤활성세척액으로 Group 1 렌즈플 세착한 경우보다 단백칠 침전물이 30 배 이상 증가하였다 그러나 실리 콘하이드로젤렌즈의 경우 비이온성， 이온성 재질에서 모두 단백질 침전불이 잘 부착되 지 않았으며 반복오염에 의해서도 침전물이 적게 부착되는 것으로 나타났다 따라서 단백질 침전물의 양은 렌즈의 재잘과 표면처리방법과 판리용액에 의해 영 향을 받는 것으로 사료된다.

Sand casting is extensively applied both ferrous and non-ferrous metal foundries. Thus tremendous amount of Used Foundry Sand (UFS) is being produced in foundry industry. In this regard, it is required to establish appropriate recycling method of UFS. In order to verify effect of recycling number of cleaning solution, the properties of Regenerated Foundry Sand (RFS) were investigated. UFS was produced in controlled condition using inorganic binder and treated by wet recycling method. Optimized recycling condition which removes binder from sand grains to a sufficient degree was set and UFS was recycled in that manner. Removal efficiency of binder was examined using ion chromatography analysis of used cleaning solution and X-ray fluorescence spectroscopy analysis of RFS. Particle size distribution was investigated by sieve analysis test and surface morphology of RFS was also investigated by using scanning electron microscope.