Atomic layer deposition (ALD) is a promising technology for the uniform deposition of thin films. ALD is based on a self-limiting mechanism, which can effectively deposit thin films on the surfaces of powders of various sizes. Numerous studies are underway to improve the performance of thermoelectric materials by forming core-shell structures in which various materials are deposited on the powder surface using ALD. Thermoelectric materials are especially relevant as clean energy storage materials due to their ability to interconvert between thermal and electrical energy by the Seebeck and Peltier effects. Herein, we introduce a surface and interface modification strategy based on ALD to control the performance of thermoelectric materials. We also discuss the properties of the interface between various deposition materials and thermoelectric materials.

본 연구는 일반 노동자를 대상으로 직무요구(업무 후 모바일기기 사용)가 구성원들의 직무소진에 미치는 영향을 검증하였다. 또한 직무소진에 대한 업무 후 모바일기기 사용과 또 다른 직무요구(조직정치지각)와 직무자원(상사 지원)의 3차항 상호작용 효과를 실증분석하였다. 일반 노동자 172명을 대상으로 한 연구결과를 정리하면 다음과 같다. 첫째, 조직구성원들이 지각하는 업무 후 모바일기기 사용은 직무소진에 통계적으로 유의미한 정(+)의 영향을 미쳤다. 둘째, 직무소진에 대한 업무 후 모바일기기 사용, 조직정치지각 및 상사의 지원의 3차항 조절효과를 실증하였다. ① 조직내 불공정한 정치적 환경이 높은 환경에서 직무요구(업무 후 모바일기기 사용)가 낮고, 직무자원(상사의 지원)이 높은 집단에 속한 구성원들의 직무소진이 가장 낮게 나타났다. ② 그러나 불공정한 정치적 환경에서는 상사의 지원이 적극적이더라도 업무 후 모바일기기 사용이 높은 경우에는 구성원들의 직무소진이 매우 높게 나타났다. ③ 또한 불공정한 정치적 환경에서는 상사의 지원이 낮은 경우에는 업무 후 모바일 기기 사용과 관계없이 구성원들이 지각하는 직무소진은 높은 수준을 유지하였다. ④ 조직 내 정치적 환경이 낮은 집단에서는 상사의 지원과 관계없이 업무 후 모바일기기 사용이 높은 집단이 낮은 집단에 비해 직무소진이 전반적으로 높았다. 본 연구결과를 바탕으로 시사점과 연구의 한계점 및 향후 연구방향이 논의되었다.