목적 : 본 연구는 인공눈물과 습윤액에 대한 일반인의 올바른 사용법 인지 여부의 파악하고, 인공눈물 및 습윤 액 사용 시 시간 경과에 따라 눈물막 안정성(눈물띠 높이와 눈물막 파괴시간)에 미치는 영향을 측정하고자 하였다. 방법 : 첫 번째 실험은 온라인 설문조사로 안구점안액의 사용법에 대한 인지를 온라인 설문을 통하여 실시하였다. 두 번째 실험은 20명의 피실험자를 모집하여, OSDI 점수를 기준으로 건성안과 비건성안 그룹으로 나누고(건성안 그룹 10명, 비건성안 그룹 10명), 참가자에게 3개의 점안액(인공눈물(AT), 습윤액(CS), 식염수(SS)를 점안하도록 하였다. 점안 후 1분, 3분, 5분 단위로 눈물막 높이(TMH)와 눈물막 파괴 시간(TBUT)을 측정하여 눈물막 안 정성 변화를 확인하였다. 결과 : 127명의 온라인 설문 응답자 중 66.6%(N=82)가 인공눈물과 습윤액의 차이에 대해서 잘 모른다고 응답하였으며, 콘택트렌즈 착용자 중 68.1%(N=47)는 렌즈 착용 중 인공눈물을 점안한 경험이 있다고 답하였다. 점안 시 시간경과에 따라 눈물띠 높이는 통계적 유의성이 있었다.(Baseline<1 min and 3 min, p<0.050). 하지만 점안전과 5분경과시의 눈물띠의 차이는 없었다(p=0.720). 눈물막 파괴시간은 점안액 종류별로 유의적인 차이가 있었으며 (SS<AT, CS p<0.050) 시 간경과에 따른 유의적 차이도 있었다(baseline, 5 min after < 1 min after, p<0.050). 결론 : 많은 사람들이 올바른 사용법에 대한 인지가 부족하였으며, 올바른 사용법의 전달이 이루어져야 할 것 이다. 눈물띠 높이는 점안액에 따른 변화는 5분 이후에는 관찰되지 않았으며, 이는 일시적인 증상완화만을 의미할 수 있다. 눈물막 파괴시간은 인공눈물을 점안 시 1분경과시 가장 길게 나타났다. 식염수 점안 시 눈물막이 가장 불안정하게 되었으며, 특히나 눈물막 파괴시간에 미치는 영향이 가장 컸다.

In this study, we investigated the dynamic stability of the system and the semi-analytical solution of the shallow arch. The governing equation for the primary symmetric mode of the arch under external load was derived and expressed simply by using parameters. The semi-analytical solution of the equation was obtained using the Taylor series and the stability of the system for the constant load was analyzed. As a result, we can classify equilibrium points by root of equilibrium equation, and classified stable, asymptotical stable and unstable resigns of equilibrium path. We observed stable points and attractors that appeared differently depending on the shape parameter h, and we can see the points where dynamic buckling occurs. Dynamic buckling of arches with initial condition did not occur in low shape parameter, and sensitive range of critical boundary was observed in low damping constants.

본 연구에서는 용액 공정으로 제작된 단분자 기반의 유기 반도체 전계효과 트랜지스터에 적용된 보호막이 유기 트랜지스터의 전기적 안정성에 미치는 영향에 대해여 살펴보았다. Solvay社에서 제공한 용액 공정형 유기 단분자 반도 체를 채널로 사용하여 제작한 유기 트랜지스터는 약 1 cm2/Vs의 상대적으로 높은 이동도를 보였으며, 대략 2.5 ~ 20 k Ωcm 범위의 낮은 접촉저항을 가진 것으로 측정되었다. 무엇보다 중요한 것은, 제작한 유기 트랜지스터에 불소원자가 함유된 Hyflon AD를 보호막으로 적용하였을 때, 보호막을 적용하기 전에 비해 훨씬 더 향상된 전기적 안정성을 보였 다. 이는 불소원자가 함유된 Hyflon AD 고분자막이 대기 중의 수분을 효과적으로 차단하기 때문으로 추측된다.

The purpose of this paper was to investigate the effect of a high-energy milling (HEM) process on the particle morphology and the correlation between a thermal treatment and tetragonal/monoclinic nanostructured zirconia powders obtained by a precipitation process. To eliminate chloride residue ions from hydrous zirconia, a modified washing method was used. It was found that the used washing method was effective in removing the chloride from the precipitated gel. In order to investigate the effect of a pre-milling process on the particle morphology of the precipitate, dried Zr(OH)4 was milled using a HEM machine with distilled water. The particle size of the Zr(OH)4 powder exposed to HEM reduced to 100~150 nm, whereas that of fresh Zr(OH)4 powder without a pre-milling process had a large and irregular size of 100 nm~1.5 μm. Additionally, modified heat treatment process was proposed to achieve nano-sized zirconia having a pure monoclinic phase. It was evident that two-step calcining process was effective in perfectly eliminating the tetragonal phase, having a small average particle of ~100 nm with good uniformity compared to the sample calcined by a single-step process, showing a large average particle size of ~300 nm with an irregular particle shape and a broad particle size distribution. The modified method is considered to be a promising process for nano-sized zirconia having a fully monoclinic phase.

This paper focuses on the after synthesis of CdTe quantum dots(QDs) in aqueous solution. CdTe nanoparticles were prepared in aqueous solution using mercaptocarboxylic acid or thioglycolic acid(TGA) as stabilizing agents. QDs emit light smaller than the nano size. The contents of the mercaptocarboxylic acid, and a kind of raw material, were revealed for a period of time. We succeeded in synthesizing a very high quality QDs solution; we discussed how to make QDs better and to keep them stabilized. TGA is known as one of the best stabilizing agents. Many papers have mentioned that TGA is a good stabilizing agent. We dramatically confirmed the state of QDs after the experiments. The QDs solution can be influenced by several factors. Different content of TGA can influence the stability of the CdTe solution. Most papers deal with the synthesis of CdTe, so we decided to discuss the after synthesis process for the stability of the CdTe solution.

본 연구는 전자 및 반도체 산업의 각종 에칭공정에서 발생되는 중금속 함유 산성 폐에칭액을 NF 막분리법을 이용하여 에칭액 회수와 중금속 처리를 효율적으로 수행하기 위한 NF 막공정의 운전조건을 설정하기 위한 기본 자료를 확보하는데 있다. 이를 위해 3가지 종류의 상용 NF 막(General Electric Co. Duraslick NF-4040 막, Dow Co. Filmtec LP-4040 막 및 Koch Co. SelRO MPS-34 4040 막)을 대상으로 Pb+2 중금속을 함유한 모의 질산 폐에칭액의 회분식(dead-end) 막여과 실험을 수행하여 폐에칭액의 투과 플럭스와 Pb+2 중금속 이온의 총괄 배제도를 측정하여 폐에칭액 처리에 우수한 NF 막을 선정하였다. 실험결과 질산용액에의 막 보관기간이 길수록, 질산용액의 pH가 낮을수록 산에 의한 막의 손상이 심해졌으며, 질산에 의한 막의 손상은 SelRO MPS-34 4040 < Duraslick NF-4040 < Filmtec LP-4040 막의 순서로 심하게 일어났다. 또한 질산용액에의 막 보관기간이 길수록, 질산용액의 pH가 낮을수록 Pb+2 이온의 배제도가 낮아졌으며, 배제도 값은 Duraslick NF-4040 막의 경우에는 95% 수준의 초기 배제도 값에서 질산용액에의 4달 보관 후에는 20% 수준으로, SelRO MPS-34 4040 막의 경우에는 초기 85% 수준에서 4달 후 65% 수준으로, Filmtec LP-4040 막의 경우에는 초기 90% 수준에서 4달 후 10% 이하 수준으로까지 감소하였다. 3종류의 상용 NF 막 중 내산성 용도로 개발된 SelRO MPS-34 4040 막이 중금속 함유 산성 폐에칭액의 재생에 가장 적합하였다.

Allylaliphatic carboxylate oligomers were prepared from polymerization giving allyl aliphatic carboxylates in the presence of potassium persulfate in methanol and the α-sulfonation of these allyl aliphatic carboxylates oligomers were carried by direct addition of dry sulfur trioxide. The dispersing performance of oligomer type anionic surfactants and SDS in the aqueous suspension of Fe2O3 and Tio2 particles were evaluated by particle size distribution and ξ-potential measurement. As results, the particles of Fe2O3 and Tio2 were flocculated by addition of small amount of oligomer type anionic surfactants and SDS, then the flocks redispersed by more addition oligomer type anionic surfactants and SDS. The dispersion and flocculation were observed in lower concentration range of oligomer type anionic surfactants than SDS.

The sodium α-sulfo fatty acid vinyl ester oligomers, which are oligomer type surfactants were prepared by polymerization with fatty acid vinyl acetate. The α-sulfonation of fatty acid vinyl ester oligomers were carried by direct addition of sulfur trioxide. The dispersing performance of oligomer type anionic surfactants and sodium dodecyl sulfate(SDS) in the aqueous suspension of iron oxide and titanium dioxide particles was evaluated by particle size distribution and zeta-potential measurement. As results, the particles of iron oxide and titanium dioxide were flocculated by addition of small amount of oligomer type anionic surfactants and sodium dodecyl sulfate(SDS), then the flocks redispersed by more addition of oligomer type anionic surfactants and SDS. The flocculation, redispersion process was observed in lower concentration range of oligomer type anionic surfactants than SDS. Especially, the dispersing action of sodium α-sulfo palmitic acid vinyl ester oligomer was better than sodium α-sulfo lauric acid vinyl ester oligomer.

Fluorescent anionic oligo surfactants were synthesized by the condensing products of long chain alkylvinylether-maleic anhydride cooligomers and resorcinol including dye structures. Their various surface activities and dispersing action were studied on the aqueous solution. These oligo surfactants exhibited a remarkable surface tension lowering property, lower foaming and a large dispersing action for the particles of α-copper phthalocyanine blue. Further it was ascertained that the binding of oligo surfactant onto the pigment surface caused the deviation towards lower wavelengths at the maximum fluorescent intensity as compared with aqueous oligo surfactant solutions, These surface active properties of the oligo surfactants may be attributed to rigid and hydrophobic structure of dye groups, besides surface-active groups of alkylether groups and carboxylic group of the anionic oligo surfactants.

고진공하에서 벽개된 GaAs를 대기중 노출시킨후, 결합상태 및 조성의 변화를 정량적으로 연구하여 Ga의 우선적 산화경향 및 결합의 붕괴에 기인한 원소상태 Ga 및 As의 생성을 관찰하였다. 대기중 노출시, 초기 Ga/As 비(=0.01)는 Ga의 우선적 산화에 의해 증가하였으며 원소상태 As의 증가와 더불어 일정값(=1.25)으로 유지되었다. 습식세정된 GaAs와 유황처리된 (S-passivated)GaAs를 각각 대기중에 노출시켜, 각각의 표면상태 변화를 비교, 관찰하였다. 유황처리된 GaAs는 습식세정처리만한 GaAs에 비해 산화막 성장이 크게 억제되었고, 이는 (NH4)2Sx 용액 처리로 형성된 Ga-S 및 As-S 겹합의 표면보호 효과에 기인한 것이다. 특히 대기중 노출에 따른 유황처리된 GaAs 표면조성 및 결합상태 변화의 정량적 관찰을 통하여, 유황보호막(S-passivation layer) 및 GaAs 표면과 대기중 산소와의 반응 기구를 규명할 수 있었다. 대기중 노출에 따라, 표면의 Ga-S 및 As-S 결합은 대기중 산소와 반응하여 점차 붕괴, 감소하는 경향을 나타냈으며, 이와 동시에 unpassivated 상태의 GaAs가 산소와 반응하여 Ga-O 결합을 형성함을 관찰할 수 있었다. 본 연구에서는 X-선 광전자 분광기를 사용하여 GaAs 표면 조성 및 결합상태의 변화를 관찰하였다.

The thiophene or furan-containing hexadentate ligands 1,12-bis (2-theophene)-2,5,8,11-tetraazadodecane(Thiotrien ․4HCl) and 1,12-bis (2-furan)-2,5,8,11-tetraazadodecane(Furatrien․4HCl) were synthesized as their tetrahydrochloride salt and characterized by EA, IR, NMR, and Mass spectrum. Their protonation constants (logKnH) and stability constants (logKML) for Cd2+, Pb2+, Zn2+ and Cu2+ ions were determined in aqueous solution by potentiometry and compared with 1,12-bis(2-pyridyl)-2,5,8,11-tetra-azadodecane(Pytrien) of pyridyl-containing ligand. The effect stability constants of ligands and metal ion for removal of heavy metals in aqueous solution were described.