Si3N4가 추진기관 연소조건 하에서 흑연의 산화와 마모를 효과적으로 방지하는 다층 코팅재료로 쓰일 수 있도록 하기 위하여 저압화학기상증착법(LPCVD)으로 Si3N4를 코팅할 때의 증착특성에 대해 연구하였다. 흑연 위에 pack cementation방법으로 SiC를 코팅하고 그 위에 저압화학기상증착법으로 Si3N4를 코팅 하였으며, 증착온도와 반응기체입력비를 변화시키면서 이에 따른 증착속도와 표면형상의 변화를 관찰하였다. 증착속도는 증착온도가 높아짐에 따라 처음에는 증가하다가 최대값을 나타낸 후 감소하는 경향을 나타냈으며, 그레인의 크기는 증착온도가 높아짐에 따라 작아지는 경향을 보였다. 한편, 반응기체의 입력비가 20≤NH3/SiH4≤40인 조건에서는 증착속도의 변화나 표면형상의 변화를 관찰할 수 없었다. 증착온도 800~1300˚C 범위에서 증착된 Si3N4가 비정질상인 것을 XRD로 확인할 수 있었으며 1300˚C, 질소 분위기에서 2시간 동안 열처리하여 결정상인 Si3N4를 인을 수 있었다.

The Electron/Hole Pair is generated when the activation energy produced by ultraviolet ray illuminates to the semiconductor and OH- ion produced by water photocleavage reacts with positive Hole. As a results, OH radical acting as strong oxidant is generated and then Photocatalytic oxidation reaction occurs. The photocatalytic oxidation can oxidate the non-degradable and hazardous organic substances such as pesticides and aromatic materials easier, safer and shorter than conventional water treatment process. So in this study, many factors influencing the oxidation of chlorophenols, such as inorganic electrolytes addition, change of oxygen and nitrogen atmosphere, temperature, pH, oxygen concentration, chlorophenol concentration, were throughly examined. According to the experiments observations, it is founded that the rate of chlorophenol oxidation follows a first-order reaction and the modified Langmuir-Hinshelwood relationship. And the photocatalytic oxidation occurs only when activation energy acting as Electron/Hole generation, oxygen acting as electron acceptor to prevent Electron/Hole recombination, $TiO_2$ powder acting as photocatalyst are present. The effects of variation of dissolved oxygen concentration, temperature and inorganic electrolytes concentration on 2-chlorophenol oxidation are negligible. And the lower the organic concentration, the higher the oxidation efficiency becomes. Therefore, the photocatalytic oxidation is much effective to oxidation of hazardous substances at very low concentration. The oxidation is effective in the range of 0.1 g/L-10 g/L of $TiO_2$. Finally when the ultra-violet ray is illuminated to $TiO_2$, the surface characteristics of $TiO_2$ change and Adsorption/Desorption reaction on $TiO_2$ surface occurs.

Nd-(Fe, Co)-B합금에 Ni, Al, Ti등을 복합치환하여 그에 따른 산화거동과 자기적 성질의 변화를 조사하였다. 이들 리본의 산호거동은 parabolic한 거동을 나타내고 있으며, Ni 첨가시 매우 낮은 산화량을 나타내었다. 또한 산화된 리본은 Nd-rich상의 우선적 산화에 의해 표면에 요철이 관찰되었으며 Ni 첨가시 그러한 요철은 많이 줄어들었다. 표면의 산화층은 Nd산화물이었고, 이는 입계에 있는 Nd-rich상이 산화되고 이것이 확산 통로로 작용하였다고 생각된다. 산화가 진행됨에 따라 입계상에 의한 domain wall pinning이 약해져 자기특성이 저하하였다. 그러나 Ni 첨가시 이러한 산화거동이 크게 억제되었으며 Ni의 첨가는 Nd-rich상의 산화저항성을 증가시킴으로써 리본의 산화를 억제해 자기특성의 저하를 억제하였다.

반도체 세정공정에서 염기성 세정액(SCI, Standard cleaning 1, NH4OH + H2O2 + H2O)은 공정상 발생되는 여러 오염물 중 파티클의 제거를 위해 널리 사용되고 있는데, SCI 조성중 NH4OH양에 따라 세정 중 실리콘의 식각속도를 증가시킨다. 이 연구에서는 SCI 세정이 CZ(Czochralski)와 에피 실리콘 기판 표면에 미치는 영향을 단순세정과 연속적인 산화-HF 식각-SCI 세정공정을 통해 관찰되었다. CZ와 에피 기판을 80˚C의 1 : 2 : 10과 1 : 1 : 5 SCI 용액에서 60분까지 단순 세정을 했을 때 laser particle scanner와 KLA사의 웨이퍼 검색장치로 측정된 결함의 수는 세정시간에 따라 변화를 보이지 않았다. 그러나 CZ와 에피 기판을 10분간 SCI 세정후 900˚C에서 산화 HF식각공정을 4번까지 반복하였을 때 에피 기판 표면의 결함수는 감소하는 반면에 CZ기판에서는 직선적으로 증가하였다. 반복적인 산화-HF 식각-XCI 세정공정을 통해 생성된 CZ기판 표면의 결함은 크기가 0.7</TEX>μm 이하의 pit과 같은 형상을 보여주었다. 이들 결함은 열처리 중 CZ 기판내와 표면에 산화 석출물들이 형성, 반복적인 HF 식각-SCI 세정공정을 통해 다른 부위에 비해 식각이 빨리 일어나 표면에 생성되는 것으로 여기어 진다.

Ham, sausage and bacon were treated with common household processing techniques including refrigerated storage(0, 14, 28 days) and cooking(pan-frying, microwaving, boiling). Lipid oxidation was evaluated by measuring fatty acid composition, malonaldehyde(MA), TBA values and by measuring fluorescent products. Major fatty acid composition were oleic acid and followed respectively palmitic acid, stearic acid, linoleic acid, linolenic acid. There was no significant difference in fatty acid composition by cooking method but there was a tendency of being increased of unsaturated fatty acid during 28days storage. Ma, TBA and fluorescent products showed a tendency of being increased continually according to storage days rather than cooking method.

The oxidation of cholesterol in tallow heated at three frying temperatures, 130, 150 and 180℃ was studied by assaying cholesterol oxidation products(COP) by GC-MS. The correlation between levels of COP and changes of physicochemical parameters (peroxide value, polymer, polar components and dielectric constant) in tallow heated were studied. As temperature increased, the amount of cholesterol was decreased proportionally with heating time. However, the levels of COP did not increase considerably with increased frying temperature. The rate of cholesterol disappearance was the greatest at 180℃ and the smallest at 130℃. Larger amounts of COP formed were found at 150℃ than at 180℃. The levels of COP formed in tallow heated showed highly correlation with(r=0.94, n=30, p$lt;0.01) polymer, polar components and dielectric constant, respectively.

A long- time aeration method was developed for purification of animal wastewater. Under repeated aereations of 4 hours on and 4 hours off, the higher removal rates were obtained which were in average of 99%, 96%, 92% and 50% for BOD, SS, total nitrogen and phosporous, respectively. In detail, the measured BOD concentrations of the influent and effluent were 2,700ppm and 40ppm while the SS concentrations in the primary chamber and of the effluent were about 3,000 and 110 ppm, respectively. Zeolite and activated carbon, applied for removing the nitrogen and phosphorous, showed a good absorption, especially zeolite for NH4-N and activated carbon for NO3-N and PO4-P. The treatment cost per head by this method amounts to 1,923 won and it comes to 1.6% in the whole production cost. Therefore, this method is economically available with the half cost of the conventional activated sludge process.

합금원소(Cr, V, Si. Mo, Nb)가 첨가된 TiAi 금속간화합물의 고온 산화거동을 대기중의 900~1100˚C에서 관찰하였다. 산화반응물은 XRD, SEM, WDX을 이용하여 분석하였다. 등온 산화에 있어서 Cr과 V이 각각 첨가된 시편은 무게증가가 많았으나, Si, Mo, Vb가 각각 첨가된 시편은 상대적으로 무게증가각 적었아. 그리고, Cr과 V이 각각 첨가된 시편의 산화속도는 TiAi의 그것보다 항상 크게 나타났으며, Si, Mo, Vb가 각각 첨가된 시편의 산화속도는 TiAi의 그것보다 향상되지 않고, Si, Mo또는 Nb 첨가는 내산화성을 향상시킨다. Si, Mo, Nb이 각각 첨가된 TiAI합금표면에 형성된 산화물은 보호막 역할을 함으로 산소와 합금원소의 확산을 감소시키는 역할을 하였다. 특히, Nb는 산화의 초기단계에서는 AI2O3를 형성하려는 경향이 강하기 때문에 연속적인 AI2O3층과 조밀한 Tio2+AI2O3 혼합층이 형성되었다. Nb가 첨가된 합금의 백금 marker 실험결과에 따르면, 산소가 주로 합금내부로 확산하여 합금표면에서 산화물을 형성하였다. 900˚C에서의 열반복주기(thermal cyclic)산화실험 결과, 다른 합금원소와 비교해 볼 때 Cr또는 Nb첨가가 금속기지와 산화층간의 접착력을 향상시키는 것으로 나타났다.

광촉매 TiO2 막에 의한 formic acid의 광분해 효율이 연구되었다. 막반응기는 용액의 정밀여과(micro-filtration)는 물론 유기물의 광분해를 동시에 수행할 수 있도록 다공성 TiO2 튜브 (평균기공: 0.2μm)를 이용한 새로운 타입으로 개발되었으며 광원으로는 365 nm 파장을 갖는 UV를 사용하였다. 또한 반응기의 광분해 효율을 증진시키기 위하여 슬립케스팅법으로 제조한 TiO2 튜브표면을 TiO2 졸로 코팅하였다. TiO2 막 반응기의 분해효율은 용액의 투과량(flux), 막의 미세구조(졸의 pH), 공급산소량, H2O2와 같은 1차 산화제(primary oxidants)의 첨가 그리고 Nb2O5와 같은 물질의 도핑(doping)에 매우 민감함을 알 수 있었다. 최적의 광분해 반응조건에서 formic acid의 산화효율은 pH가 1.45인 TiO2 졸로 코팅한 막 반응기를 사용했을때 80% 이상이었다. Formic acid 용액에 1차 산화제 H2O2를 첨가하거나 막을 Fe2O3로 도핑함으로써 산화효율은 최고 20%까지 증가시킬 수 있었다.

Ni기 초합금은 Co, Cr, Mo, W등의 고용 강화 원소와 AI, Ti, Nb, Ta 등의 γ ' 석출 강화 원소로 구성되어 있다. 초합금의 기계적 성질과 내산화성을 개선하기 위하여 희토류 원소를 재료 내부에 첨가하거나, 코팅 재료로써 사용하고 있다. 이들 희토류 원소는 Al2O3, Cr2O3등의 산화물의 종류에 따라 산화물의 성장 속도와 밀착성에 영향을 미친다. Hf함유 Ni기 초합금 AF115와 AI2O3 함유 MA6000초합금 2종을 이온 코터를 이용, Yttrium 표면개질후, 온도 1273K-1473K에서 고온 산화 수 산호 피막의 성장 속도, 결정립, 내부 구조 및 내박리성에 미치는 Yttrium 의 영향을 조사하였다. AF115와 MA6000 초합금에 Yttrium코팅을 한 결과 내부 산화물의 성장에 현저한 변화가 있었다. Yttrium의 표면 개질에 의하여, AF115의 경우는 AI2O3 주성분의 입계 집중과 Hf의 우선 산확 억제되고, 삼각 형태의 내부 산화물이 plate형으로 변화되었다. MA6000의 경우 AI2O3 주성분의 산화층이Cr2O3주성분의 외부 산화층과AI2O3 주성분의 내부층으로 변화되었다.

SiO2초박막(ultrathin film)의 두께 조절 용이성, 두께 균일성, 공정 재현성 및 전기적 특성을 향상시키기 위해 실리콘을 N2O분위기에서 열산화시켰다. N2O분위기에서 박막 성장시 산화와 동시에 질화가 이루어지기 때문에 전기적 특성의 향상을 가져올 수 있었다. 질화 현상에 의해 형성된 Si-N결합 형성은 습식 식각율과 ESCA분석으로 확인할 수 있었다. N2O분위기에서 성장된 SiO2박막은 Fowler-Nordheim(FN)전도 기구를 보여주었으며, 절열파괴 특성과 누설 전류특성 및 산화막의 신뢰성은 건식 산화막에 비해서 우수하였다. 또한 계면 포획밀도는 건식 산화막에 비해 감소하였고, 전하를 주입했을 때 생성되는 계면 준위의 양 또는 크게 감소하였다. 산화막 내부에서의 전하 포획의 양도 감소하였고, 전하를 주입하였을 때 생성되는 전하 포획의 양도 감소하였다. 이와 같은 전기적인 특성의 향상은 산화막 내부에서 약하게 결합하고 있는 Si-O 결합들이 Si-N결합으로의 치환과 스트레스 이완에 의하여 감소하였기 때문이다.

The effect of frozen storage and cooking methods on lipid oxidation in chicken meat was studied. Chicken meats were stored 0, 30, 60, 90, 120 days at -18℃ and were evaluated before and after cooking. 1. The crude fat content of chicken meat is the highest thigh meat with skin in microwaving. Fat content was increased duting 30 days of frozen storage, and then after. 2. Peroxide value, acid value and TBA value was increased during the days of storage because lipid autoxidation was processed cooking and during frozen storage time. The peoxide value and acid value were higher compared to sample cooked by other methods. 3. The fluoresence units were increased with frozen storage, and initial levels of fluoresent after processing. 4. The fatty acid composition of chicken meat fats is mainly palmitic acid and oleic acid, and the effect of frozen storage and meats part is not significantly change but fatty acid significantly change according to frying that linoleic acid was increased during frozen time. From all the results obtained in this study it can be conclude that lipid autoxidation of the chicken meat frozen storage at 18℃ was consistantly processed, and breast meat oxidation was increased than thigh meat because chicken breast meat include many polyunsaturated fatty acid. Frying was significantly increased highest than other cooking methods.

The blended oil was prepared from cottonseed oil and palm olien. The oxidative stability of blended oil after the addition of natural tocopherol and soybean lecithin during heating was investigated and the effects of lecithin were evaluated. The result obtained were as follows: 1. When the concentration of palm olein in blended oil during heating was increased, the oxidative stability was improved. 2. By both addition of natural tocopherol and soybean lecithin during heating in blended oil, induction period was considerably increased and residual ratio of tocopherol was high. 3. The oxidative stability of potato chips prepared from blended oil was higher in the prsence of lecithin than in the absence of it.

본 논문에서는 Si(111)에 대한 건식산화와 어닐링에서 결함의 억제 또는 제거에 NH3가 효과적임을 밝혔다. 산화방식은 건식산화(dry O2 oxidation)및 NH3산화(NH3 added in dry O2oxidation)를 택하였고 N2및 NH3N2분위기에서 어닐링 효과를 평가하였다. 건식산화에서는 발생되는 결함이 성장시간에 따라서 길이가 길어지며, NH3산화에서는 결함이 발견되지 않았다. 또한 초기산화를 NH3산화로 하고서 건식산화를 하였을 때 계면에서의 결함을 제거하는 효과가 있다. 건식산화 또는 NH3산화를 한 후 이들 시료에 대하여 7.5% NH3N2분위로 어닐링하면OSF의 게터링(gettering)효과가 있었다. NH3산화방식에서 7.5%NH3N3분위기로 어닐링했을때가 건식산화방식에 비하여 OSF의 길이가 20%정도 감소하였다. OSF의 모양은 pit형으로 (111)면에 대하여 (011)면 쪽으로 게터링이 일어났으며<110>방향으로 식각되는 성질이 있었다.

열산화막위에 LPCVD법을 이용하여 질화막을 형성시킨 후, 질화막의 열처리 유무와 습식재산화처리의 공정조건에 따른 다양한 막의 두께를 가진 ONO(oxide nitride oxide)캐패시터를 제작하여 여러가지 물성을 조사하였다. 질화막을 습식산화처리하여 전체막의 굴절윷과 식각거동을 관찰한 결과, 40Å두께의 질화막은 치밀하지 못하여 계속되는 산화공정동안에 하부층 산화막이 성장되었고 정전용량의 확보능력도 떨어졌다. ONO다층유전박막의 전도전류는 하부층 혹은 상부층 산화막의 두께가 증가함에 따라 감소하였다. 그러나 산화막이 50Å 이상인 경우에는 정전용량의 감소요인으로 작용할 뿐, hole유입에 대한 barrier역할은 크게 향상되지 못하였다. 산화전 질화막에 대한 열처리 효과는 막의 굴절율과 정전용량에 큰 영향을 주지 못하였으나 절연파괴전압은 약 2-3V 상승효과를 보였다.

실리콘 산화막을 N2O 분위기에서 RTP로 제조하여 그 성장 기구를 고찰 했다. 산화막과 기판 실리콘 계면 사이에 질소성분이 포함된 oxynitride층이 존재한다. N2O 기체를 이용한 산화막 성장은 삼화제 확산에 의해 성장이 지배되는 포물선 성장론을 따르고 산화제 확산 억제작용은 실리콘 산화막과 실리콘 기판사이에 존재하는 oxynitride막에서 일어난다. 확산이 산화막 성장을 결정하는 구간에서 포물선 성장율 상수 B의 활성화 에너지는 약 1.5 eV이고 산화막 두께 증가에 따라 증가한다.

The study was observed that anti oxidation effect of each and mutual relation on BULGOGI seasoning in Fore shank and Ribs. Each antioxidation effect were appeared to higher in suger, pear juice, soya souce, clean wine, sesamed oil, green onion, toeasted sesamed powder, black pepper, garlic im seasoned immidiately. Soya souce was revealed to higher effect anti oxidation in storaged beef among 30 minuit after seasoned. In storaged sample among 9 hour after seasoned was showed to higher effect in soya souce & galic. Mutual relation of two seasoning in BULGOGI seasoning were revealed to higher effect in mixture of green onion & galic.

The electrochemical oxidation behavior of p-cresol on platinum anode had been investigated by cyclic voltammetric method for the variation of concentration, scan rate of potential, temperature and pH of electrolyte. The oxidation potential of p-cresol was dependent on the electrolyte until the pH=11.5, but in basic solution over its, it was held at o.40V(vs. SCE). A diffusion was rate determining step of oxidation as irreversible reaction by the transfer atone electron. The current of peak was proportional to concentration of p-cresol until the 0.1N and optimum concentration was found to be about 0.1N. The activation energy was calculated for 5.8kcal/mol from the plot of log Il vs. 1/T.