Kim, Kyu-hyun. 2004. A Conversation Analysis of Korean Sentence-Ending Modal Suffixes -ney, -kwun(a), and -ta: Noticing as a Social Action. Sociolinguistic Journal of Korea, 12(1). Drawing upon H. S. Lee's (1993) cognitively-oriented research on the functions of three sentence-ending modal suffixes in Korean that are used to express newly perceived information, -ney, -kwun(a), and -ta, this study analyzes the distinct meanings of these suffixes from a conversation-analytic perspective (Sacks et al. 1974). The suffix -ney is used in the context in which the speaker notices a referent/event and makes an assessment on the spot in such a way that the speaker's stance displayed through the action is formulated as something that is to be immediately oriented to and contingently taken up by the hearer. In contrast, the suffix -kwun(a) is used when the speaker is mainly oriented to displaying a stance congruent with the prior talk. The action it organizes is often limited to acknowledging a point of the prior talk or having the hearer acknowledge the speaker's observation, often with a salient topic-curtailing and sequence-terminating import. The suffix -ta tends to orient the hearer to the next stage of the speaker's action (e.g., suggestion, warning, offer, etc.) to whose directive force the hearer is variably implicated as a beneficiary/facilitator. The interactional account offered in this paper is shown to complement Lee's cognitive account, with emphasis placed on examining the ways in which these suffixes are used as resources for organizing distinct types of social action.

고온성이며 호알칼리성인 Bacillus sp. TA-11이 생성하는 Invertase의 생합성 조절 기작을 규명하고자 먼저 이들의 유도와 억제에 관하여 검토하였다. Invertase는 10mM sucrose을 함유한 생합성 조절배지에서 3시간에 효율적으로 유도되었고 glucose는 sucrose에 의한 Invertase 유도를 inducer exclusion방식으로 억제시켰다 cAMP의 첨가로 glucose에 의한 catabolic repression이 다소 줄어들었다.

통계적 방법을 사용하여 스퍼터 증착한 Ta 박막의 증착속도, 비저항, 면저항 균일도, 반사도, 응력 등의 물성을 측정하고 분석하였다. RS/1의 표면 반응 분석법에 의해 독립변수와 종속변수간의 함수관계를 예측하였으며. 이때 비저항과 면저항의 균일도 측면에서 최적조건은 증착 압력 2 mTorr, 증착 전력 8 W/cm2 및 기판온도 20˚C였다. 실험 모텔의 신뢰성 (fitness)은 풀링(pooling)하지 않은 경우 0.85 ~0.9의 값을 얻었다. 본 조건하에서 증착된 박막은 비저항 180μΩcm와 면저항 균일도 ~ 2%의 값을 가졌다. 투과전자 현미경과 X선 회절법을 이용하여 분석한 결과 증착된 박막은 100~200 정도의 결정립 크기를 갖는 β-Ta 임을 확인하였다.

RF magnetron sputtering 법으로 T a2 O5 세라믹 타겟과 S r2N b2 O7 세라믹 타겟을 동시 sputtering하여 저유전율 S r2(T a1-x , N bx)2 O7(STNO) 박막을 p-type Si (100) 기판 위에 증착하여 NDRO 강유전체 메모리 (Non-destructive read out ferro-electric random access memory)에 사용되는 Pt/STNO/Si (MFS) 구조의 응용 가능성을 확인하였다. Sr2Nb2 O7 (SN O) 타겟과 T a2 O5 타겟의 출력의 비를 100w/100w, 70w/100w, 그리고 50w/100w로 조절하면서 x 값을 달리하여 조성을 변화시켰다. 성장된 박막을 850˚C, 900˚C, 그리고 950˚C에서 1시간 동안 산소 분위기에서 열처리하였다. 조성과 열처리 온도에 따른 구조적 특징을 XRD에 의해 관찰하였으며 표면특성은 FE-SBM에 의해 관찰하였고, C-V 측정과 I-V 측정으로 박막의 전기적 특성을 조사하였다. SNO 타겟과 T a2 O5 타켓의 출력비에 따른 STNO 박막의 성장 결과 70W/170W의 출력비에서 성장된 STNO박막에서 Ta의 양이 상대적 맡은 x=0.4였으며 가장 우수한 C-V 특성 및 누설 전류 특성을 보였다. 이 조성에서 성장된 STNO박막은 3-9V외 인가전압에서 메모리 윈도우 갑이 0.5-8.3V였고 누설전류밀도는 -6V의 인가전압에서 7.9×10-8A /cm2였다.

본 연구에서는 Electron Cyclotron Resonance plasma etching system 을 이용한 Ta 박막의 미세 식각 특성을 연구하였다. 염소 plasma를 사용하여 microwave power, RF Power, working pressure, gas chemistry 등의 변화에 따른 식각 profile의 영향을 조사하였고, pattern density가 증가함에 따라 발생하는 microloading 현상을 0.2μm 이하의 패턴에서 확인 하였다. 이를 개선하기 위하여 식각 과정을 두 단계로 분리하는 2단계 식각 공정을 수행하였으며 이를 통해 우수한 식각 profile을 얻을 수 있었다.