Thin-film shape technology is recognized for its core technology to enhance the technology of LCD, PDP, semiconductor manufacturing processes, hard disks and optical disks, and is widely used to form coated thin films of products. In addition, resistance (electron beam filament) technology for heating is used to manufacture filament for ion implants used in semiconductor manufacturing processes. By establishing an electronic beam filament production system and developing seven specifications of electronic beam filament, it is contributing to improving trade dynamics and increasing exports to Japan through localized media of theoretical imports to domestic companies. In this study, CAE analysis was performed after setting electron beam filament specification and development objectives, facilities and fabrication for electron beam filament production, electron beam filament JIG & fixture design and fabrication followed by electron beam filament prototype. Then, the automation and complete inspection equipment of the previously developed electronic beam filament manufacturing facilities was developed and researched to mass-produce them, to analyze and modify prototypes, design and manufacture automation facilities, and finally, to design and manufacture the complete inspection equipment. In this paper, design and manufacture of electronic beam filament total inspection equipment for mass production were dealted with.

바이오물질을 포함하는 나노발전기는 무공해 에너지원이며 생분해성 전자폐기물이라는 점에서 친환경적인 전자소자이다. 특히 바이오 물질이 바이오폐기물로부터 추출될 수 있다면 바이오폐기물의 양도 줄어들 것이다. 본 연구에서는 포유동물의 피부에 존재하는 동물성 콜라겐을 이용하여 마찰전기 나노발전 기를 제작하였고 그 특성평가를 진행하였다. 마찰전기 나노발전기의 전기적 양극층은 회전 도포방법을 이 용하여 콜라겐 막을 형성하여 구성하였으며, 주사전자현미경으로 막이 다공성임을 확인하였다. 제작한 마 찰전기 나노발전기는 주기적인 기계적 운동에 의해 3 Hz에서 7 V부터 5 Hz에서 15 V의 개방전압과 5 Hz에서 3.8 μA의 단락전류를 보였다. 결론적으로, 콜라겐 함유 마찰전기 나노발전기는 센서와 같은 저전 력 구동 장치의 전원이 될 수 있으며 전자 폐기물 감소에도 유용할 것으로 기대된다.

청양 본의리 소조 불상 대좌의 제작기술은 지금까지 주로 육안관찰을 통해 해석되었다. 그러나 대좌에 존재하는 제작흔들은 상당히 미시적인 형태를 보이고, 다양한 시각적 간섭을 받아 육안이나 탁본을 통해 파악하는 것이 쉽지 않다. 따라서 이 연구에서는 3차원 스캔데이 터를 기반으로 기하정보 매핑과 렌더링 기술을 적용하여 대좌의 제작흔을 입체적이고 가시적 으로 분석하였다. 본의리 대좌에 존재하는 포목흔, 지두흔, 받침모루흔, 타날흔, 접합흔, 절 단흔, 명문과 문양, 손잡이, 이음 구조 등으로 볼 때 성형-분할-건조-소성-조립의 체계적인 설계를 바탕으로 제작한 것으로 판단된다. 그러나 워낙 대형의 크기를 가져 자연건조와 소성 과정 중 수축과 뒤틀림이 발생하여 실제 사용은 불가능했을 것으로 보인다. 그럼에도 불구하 고 전체적인 규모와 제작기술로 볼 때 국내에서 유래를 찾을 수 없을 정도로 독특한 벡제 토제 기술을 보여주는 문화유산이라고 할 수 있다. 디지털 가시화 기술은 본의리 대좌뿐만 아니라 향후 토제 유물의 제작기법 해석에 있어 중요한 방법론으로 활용될 것으로 사료된다.

The electroconvection generated on the surface of an ion exchange membrane (IEM) is closely related to the electrical/ chemical characteristics or topology of the IEM. In particular, when non-conductive regions are mixed on the surface of the IEM, it can have a great influence on the transfer of ions and the formation of nonlinear electroconvective vortices, so more theoretical and experimental studies are necessary. Here, we present a novel method for creating microscale non-conductive patterns on the IEM surface by laser ablation, and successfully visualize microscale vortices on the surface modified IEM. Microscale (~300 μm) patterns were fabricated by applying UV nanosecond laser processing to the non-conductive film, and were transferred to the surface of the IEM. In addition, UV nanosecond laser process parameters were investigated for obvious micro-pattern production, and operating conditions were optimized, such as minimizing the heat-affected zone. Through this study, we found that non-conductive patterns on the IEM surface could affect the generation and growth of electroconvective vortices. The experimental results provided in our study are expected to be a good reference for research related to the surface modification of IEMs, and are expected to be helpful for new engineering applications of electroconvective vortices using a non-conductive patterned IEM.

Thin-film shape technology is recognized for its core technology to enhance the technology of LCD, PDP, semiconductor manufacturing processes, hard disks and optical disks, and is widely used to form coated thin films of products. In addition, resistance (electron beam filament) technology for heating is used to manufacture filament for ion implants used in semiconductor manufacturing processes. By establishing an electronic beam filament production system and developing seven specifications of electronic beam filament, it is contributing to improving trade dynamics and increasing exports to Japan through localized media of theoretical imports to domestic companies. In this study, CAE analysis was performed after setting electron beam filament specification and development objectives, facilities and fabrication for electron beam filament production, electron beam filament JIG & fixture design and fabrication followed by electron beam filament prototype. Then, the automation and complete inspection equipment of the previously developed electronic beam filament manufacturing facilities was developed and researched to mass-produce them, to analyze and modify prototypes, design and manufacture automation facilities, and finally, to design and manufacture the complete inspection equipment. In this paper, design and manufacture of electronic beam filament automation facilities for mass production were dealted with.

글로벌 OTT 서비스의 등장과 급속한 확산은 기존 영상 콘텐츠 산업의 지형을 바꾸는 역할을 하고 있다. 이러한 OTT 서비스는 지역별 장벽이 존재했던 영상 콘텐츠 시장에서 콘텐츠 유통의 패러다임이 바뀌고 있다는 것과 콘텐츠 제작 영역에도 많은 영향을 주고 있다는 것을 보여준다. 결과적으로 영상 콘텐츠 산업은 제작, 유통, 소비에 이르는 산업 구조에 급격한 변동을 겪고 있다. 글로벌 OTT 사업자가 콘텐츠 유통과 소비의 중요한 부분이 되면서 나타난 중요한 제작 영역의 변화 중 하나는 전문적인 제작 능력을 갖춘 제작사들이 두각을 나타내고 있다는 사실이다. 이 논문에서는 글로벌 OTT 서비스의 급격한 확산으로 변화하게 된 제작과 유통 시스템에 대해 분석하면서 앞으로의 산업 동향에 대해서 정리하고 있다.

Thin-film shape technology is recognized for its core technology to enhance the technology of LCD, PDP, semiconductor manufacturing processes, hard disks and optical disks, and is widely used to form coated thin films of products. In addition, resistance (electron beam filament) technology for heating is used to manufacture filament for ion implants used in semiconductor manufacturing processes. By establishing an electronic beam filament production system and developing seven specifications of electronic beam filament, it is contributing to improving trade dynamics and increasing exports to Japan through localized media of theoretical imports to domestic companies. In this study, CAE analysis was performed after setting electron beam filament specification and development objectives, facilities and fabrication for electron beam filament production, electron beam filament JIG & fixture design and fabrication followed by electron beam filament prototype. Then, the automation and complete inspection equipment of the previously developed electronic beam filament manufacturing facilities was developed and researched to mass-produce them, to analyze and modify prototypes, design and manufacture automation facilities, and finally, to design and manufacture the complete inspection equipment. In this paper, mainly design and manufacturing of facilities for making electron beam filament were dealted with.

Thin-film shape technology is recognized for its core technology to enhance the technology of LCD, PDP, semiconductor manufacturing processes, hard disks and optical disks, and is widely used to form coated thin films of products. In addition, resistance (electron beam filament) technology for heating is used to manufacture filament for ion implants used in semiconductor manufacturing processes. By establishing an electronic beam filament production system and developing seven specifications of electronic beam filament, it is contributing to improving trade dynamics and increasing exports to Japan through localized media of theoretical imports to domestic companies. In this study, CAE analysis was performed after setting electron beam filament specification and development objectives, facilities and fabrication for electron beam filament production, electron beam filament JIG & fixture design and fabrication followed by electron beam filament prototype. Then, the automation and complete inspection equipment of the previously developed electronic beam filament manufacturing facilities was developed and researched to mass-produce them, to analyze and modify prototypes, design and manufacture automation facilities, and finally, to design and manufacture the complete inspection equipment. In this paper, mainly jig & fixture design, production and trial production of electron beam filament were dealted with.

해수 중 존재하는 유해화학물질 검출을 목적으로 센서 시작품 제작하고 성능을 확인하였다. 센서 시작품은 검지부, 기구부, 구 동부로 구성하였다. 센서의 검지부는 ITO (Indium-Tin-Oxide) 금속산화물 나노입자 (metal oxide nanoparticle) 필름을 기판위에 인쇄하여 제작 하였고, 온도와 HNS 농도를 동시에 검출할 수 있도록 2개의 검출 부분을 갖도록 설계하였다. 센서의 기구부는 검지부와 구동부를 연결하 며, 검출에 영향을 줄 수 있는 화학적 반응을 막기 위해 테프론 재질을 이용하여 제작하였고, 특히 검지부의 착탈이 용이하도록 설계 하 였다. 구동부는 브릿지 회로와 아두이노 보드를 이용하여 전원 공급과 데이터 측정 및 디스플레이가 가능하도록 제작하였다. 시작품의 성 능에 대해서는 기존의 수질 센서를 참고한 성능 사양을 제시하고, 유기용제를 사용한 검지부와 시작품의 동작을 확인하여 응답 (ΔR), 검 출하한 (Limit of Detection), 응답시간 (response time), 오차 (error) 등을 평가하였다. 또한 해수 중 동작 특성을 파악하여 설계 사양이 구현되 었는지 확인하였다.

In existing ceramic mold manufacturing processes, inorganic binder systems (Si-Na, two-component system) are applied to ensure the effective firing strength of the ceramic mold and core. These inorganic binder systems makes it possible to manufacture a ceramic mold and core with high dimensional stability and effective strength. However, as in general sand casting processes, when molten metal is injected at room temperature, there is a limit to the production of thin or complex castings due to reduced fluidity caused by the rapid cooling of the molten metal. In addition, because sodium silicate generated through the vitrification reaction of the inorganic binder is converted into a liquid phase at a temperature of 1,000 °C. or higher, it is somewhat difficult to manufacture parts through high-temperature casting. Therefore, in this study, a high-strength ceramic mold and core test piece with effective strength at high temperature was produced by applying a Si-Na-Ti three-component inorganic binder. The starting particles were coated with binary and ternary inorganic binders and mixed with an organic binder to prepare a molded body, and then heat-treated at 1,000/1,350/1,500 °C to prepare a fired body. In the sample where the two-component inorganic binder was applied, the glass was liquefied at a temperature of 1,000 °C or higher, and the strength decreased. However, the firing strength of the ceramic mold sample containing the three-component inorganic binder was improved, and it was confirmed that it was possible to manufacture a ceramic mold and core via high temperature casting.

본 실험에서는 무전해 도금을 통하여 Pd 및 Pd-Cu 분리막을 제조하여 수소 투과 성능을 분석하였다. 분리막의 지 지체는 α-Al2O3 세라믹 중공사를 사용하였다. Pd-Cu 분리막은 무전해 도금을 실시하였고 Pd-Cu 합금을 만들기 위하여 수소 분위기에서 500°C, 18 h 동안의 열처리 과정을 거쳤다. 그 후, Pd-Cu 분리막은 EDS (Energy Dispersive X-ray Spectroscopy), XRD (X-ray Diffraction) 분석을 통해 합금이 형성된 것을 확인하였다. Pd 및 Pd-Cu 도금층의 두께는 SEM (Scanning Electron Microscope) 분석을 통해 각각 약 3.21, 3.72 μm으로 측정되었다. 수소 투과 성능은 수소 단일 가스, 혼합가스(H2, N2)에서 350~450°C, 1~4 bar의 범위에서 수소 투과 실험을 진행하였다. 수소 단일 가스에서 Pd 및 Pd-Cu 분리막은 450°C, 4 bar에서 최대 54.42, 67.17 ml/cm2⋅min의 flux를 가지며, 혼합가스에서는 450°C, 4 bar의 조건일 때, 각각 1308, 453의 separation factor가 나오는 것을 확인하였다.

오대산(五臺山)은 신라시대 자장스님에 의해 중국 오대산으로터 문수신앙 이 도입되어 지금까지 우리나라의 대표적인 문수신앙의 성지가 되어 왔다. 그 중심에 상원사가 있다. 상원사에는 1466년 조선왕실이 발원한 동자 문수 보살상과 1661년에 의천스님이 발원, 조성한 문수보살상이 나란히 안치되어 있다. 1661년 조성된 문수보살상은 진여원의 세 번째 중창된 만들어진 상원 사의 본존불이다. 이 불상이 조성되기 전 이미 상원사에는 동자 문수보살상 과 노(老) 문수보살이 전하고 있었다. 동자 문수보살은 왕실에서 조성한 것이 기 때문에 지금과 달리 특별히 마련된 원당에 봉안되어 있었을 것이고 노 문수보살상은 상원사의 원래 본존으로 봉안되어 있었던 것으로 파악된다. 이 문수보살상이 1599년에서 1661년 사이 인근 보현사로 이안되면서, 새로운 문수보살상이 의천스님에 의해 계획된 것으로 보이며, 지금의 문수보살상이 바로 그 문수보살로 추정된다. 보살상의 제작에는 임진왜란 이후 팔도도총섭 체제로 개편되는 불교의 시스템과 관련이 깊다. 팔도도총섭은 전란으로 피해 를 입은 사찰을 복구하기 위해 체계적으로 승려장인들을 육성하였고, 이 보 살상을 제작한 승려 역시 도총섭 체제하에서 육성된 승려장인들로 구성된 것으로 보인다. 1661년에 제작된 문수보살상은 如意를 지물로 취하고 있다. 조선시대 이 전 如意는 주로 보현보살의 지물로 등장하지만, 차츰 문수보살상의 지물로도 사용되다 17세기 이후에는 완전히 문수보살의 지물로 채택되고 있다. 따라 서 상원사 문수보살상의 여의는 조선 후기 조각승들이 인식했던 문수보살의 도상을 이해하는 데 중요한 의미를 지니고 있다. 이 보살상을 제작한 사람은 신겸과 회감인데, 신겸은 이 시기 대표적인 불화승이고 회감은 조각승이다. 불화승과 조각승의 공조로 불사가 진행되고 있어 당시 불사의 특징을 이해하 는 데 유익한 정보를 담고 있다.

컴퓨터 그래픽 기술을 활용하여 디지털 콘텐츠를 만드는 분야에서 군인 또는 무기를 캐릭터나 소품으로 사 용할 경우가 많다. 특히 컴퓨터 게임 분야에서는 다양한 전쟁 게임이 만들어지고 있으며 현대 군인을 군복 을 비롯한 군장비나 사용하는 각종 무기, 이수송 장비 등에서 위장용 패턴이 필요할 수 밖에 없다. 현대 군 인들이 전투 현장에서 적군에게 눈에 잘 띄지 않도록 하는 위장 패턴은 다양하게 발전되어 왔고 다양한 전 투 현장에 따라 특유의 무늬 패턴을 사용한다. 사용되는 컬러는 다양한 환경에서 자주 나타나는 색이 포함 되면서도 최대한 적은 컬러로 생산 할 수 있도록 만드는 것을 주요 목표로 한다. 따라서 사막이나 바위, 숲, 계절 등을 고려하여 주로 사용되는 주요 컬러를 선택하고 이들 환경에서 잘 눈에 띄지 않을 만한 패턴 형 태에 이러한 컬러를 적용하는 방식으로 군복에 위장색을 적용한다. 본 논문에서는 기존 연구들이 대부분 2 차원 적인 이미지 배경에 2차원 이미지에 텍스처를 입혀 위장 패턴을 만들고 적용하는 데 중점을 두고 있 지만, 게임과 같은 3차원 콘텐츠 애셋을 만드는 데 유연하게 적용할 수 있는 프로시저럴 위장 패턴 텍스처 생성 기법을 제안하고자 한다. 3차원 디지털 모델에 uv를 적용한 경우나 uv맵 없이 3차원 좌표계에서 텍스 처 패턴을 생성하는 시스템을 제시하고자 한다.