단결정 Si기판위의 Co/Ti 이중층으로부터 형성된 Co 실리사이드의 에피텍셜 성장기구에 대하여 조사하였다. 실리사이드화 과정중 Ti원자들이 저온상의 CoSi결정구조의 tetrahedral site들을 미리 점유해 있음으로 인하여, CoSi2 결정구조로 바뀌는 과정에서 Si원자들이 나중에 제위치를 차지하기 어렵게 되는 효과 때문이다. 그리고 Ti중간층은 반응의 초기단계에 Co-Ti-O 삼원계 화합물을 형성하는데, 이 화합물은 실리사이드화 과정중 반응 제어층으로 작용하여 에피텍셜 실리사이드 형성에 중요한 역할을 한다. 최종 열처리 층구조 Ti oxide/Co-Ti-Si/epi/Cosi2(100) Si 이었다.

본 실험은 꽃도라지의 고온기 육묘시 유묘의 저온처리기간에 따른 정식 후 생장과 개화반응을 조사하기 위하여 수행되었다. 본엽이 4매 전개된 유묘를 10℃의 인큐베이터에 각각 2, 3, 4, 5주 동안 저장하였다. 비교를 위해 저온저장하지 않은 식물체와 각각의 기간동안 저온처리된 식물체는 최저 야온 12~13℃, 자연일장 조건의 유리온실에 정식하여 관리하였다 아즈마설과 아즈마훈 품종의 경우 경경과 엽수에서는 처리간 차이가 없었다. 그러나 초장 절간장 지상부 생체중 및 건물중은 4주동안의 처리구에서 현저하게 증가하였다. 두 품종 모두에서 4주 동안의 저온처리는 꽃의 무게와 직경의 크기를 증가시켰으며 개화소요일수도 무처리구와 2주 처리구에 비해 20일이 단축되었다. 아즈마조 품종의 지상부생육은 4주 동안의 저온처리구에서 증가되었으며 꽃의 품질도 향상할 수 있었다. 개화소요일수는 4주 동안의 저온처리구에서 무처리구보다 31일 2주 처리구보다는 36일이 단축되는 결과를 보였다. 실험 결과 꽃도라지 아즈마설, 아즈마혼, 아즈마조 품종의 고온기 육묘시 유묘의 최적 저장 조건은 10℃에서 4주간이었다

A new process using rapid solidification (melt spinning method) followed by pressing and sintering was investigated to produce the n-type thermoelectric ribbons of 90% +10% doped with . Quenched ribbons are very brittle and consisted of homogeneous pseudo-binary solid solutions. Property variations of the materials was investigated as a function of variables, such as dopant quantity and sintering temperature. When the process parameters were optimized, the maximum figure of merit was .

본 논문에서는 등방성판의 인장이나 전단변형은 물론 굽힘문제에도 적용할 수 있는 3차원 고체요소들 중에서 최소의 자유도를 갖는 수정 10절점 상당요소를 제안하였다. 제안된 수정 10절점 상당요소는 Q11요소나 20절점요소로부터 자유도가 줄어듬에 기인한 과대한 굽힘강성을 나타낸다. 이러한 상대적 강성과잉 현상을 수정하기 위한 효과적인 방법으로 가우스 적분점 수정 방법을 제안하였다. 수정량은 포아송 비의 함수이다. 수정 10절점 상당요소의 효과를 여러 가지 예에 적용하여 검증하였다. 제안된 수정 10절점 상당요소에 의한 등방성판의 정적해석과 자유진동 해석의 결과들은 20절점요소를 사용한 결과들과 잘 일치하였다.

Si(001)기판 위에 형성시킨 Zr-silicide의 전기적, 물리적 특성에 관한 연구를 하였다. Zr 박막은 전자빔 증착기를 사용하여 증착하였으며, 500˚C 열처리하여 Zr-silicide를 형성시켰다. 각 온도에서 열처리된 Zr-silicide시편의 상형성, 전기적 특성, 화학적 조성, 표면 및 계면 형상을 XRD, four-point probe, AES, TEM과 HRTEM으로 분석하였다. 분석 결과 600˚C부터 Zr과 Si기판의 계면에서 C49 ZrSi2의 생성이 관찰되었다. Zr-Silicide박막의 비저항은 C49 ZrSi2의 형성에 영향을 받는 것으로 관찰되었으며, 500˚C 열처리 후에는 184.3 μΩ-cm로 낮아졌으며, C49 ZrSi2가 박막에 완전히 형성된 800˚C 열처리 후에는 32μΩ-cm의 낮은 저항을 나타내었다. 형성된 C49 ZrSi2박막은 균질한 화학적 조성을 하고 있음을 AES 분석으로 확인하였다. Zr-silicide의 표면 및 계면의 형상을 TEM과 HRTEM으로 관찰하였으며, 600˚C 열처리 후에 계면에서 ZrSi2의 상형성이 시작되는 것을 관찰하였다. 800˚C 열처리 후에도 계면과 표면형상은 비교적 균질한 형상이 유지되었음이 관찰되었으며, 이는 C49 ZrSi2가 높은 온도에서도 잘 응집되지 않으며 고온 안정성을 가지는 재료임이 관찰되었다.

Bacillus sp. DSNC 101은 탄소원으로 2.0% oat spelts xylan, 질소원으로 2.0% yeast extract, 그리고 인산염으로 0.4% K_2HPO_4를 함유한 pH 8.0의 xylanase 생산 배지에서 40℃에서 3일간 배양하였을 때 305.0 unit/ml의 xylanase 활성도를 나타내었다. 본 균주는 xylan, 가용성 전분, 볏짚 분말, Avicel, maltose, 그리고 lactose를 유일한 탄소원으로 사용하였을 때 xylanase를 생산하였으나 glucose, xylose, 그리고 arabinose를 사용하였을 때는 xylanase를 생산하지 않았다. 여러 가지 기질들에 대한 배양 상징액의 분해 활성을 조사한 바, xylan 분해 활성 외에 Avicel, carboxymethyl cellulose, 그리고 전분 및 PNPX에 대한 분해 활성은 나타내지 않았다. Xylanase 합성은 glucose에 의해서는 억제되었으나 xylose에 의해서는 억제되지 않았다. 배양 상징액을 이용한 xylan 분해 산물은 xylobiose를 포함한 소당류들이었으며 xylose는 거의 생성되지 않았다.

Si(100)기판상에 여러 가지 두께의 Au박막을 선행 증착(pre-deposition)한 후, 각각의 Au박막상에서의 Cu-MOCVD박막의 초기 핵생성과 성장 기구를 고찰하였고, 또한 각 계면에서의 상호 확산 거동을 여러가지의 분석 장비를 이용하여 조사하였다. 30Å두께의 Au 박막은 수소 가스 분위기중의 열처리에 의하여 평탄한 표면 상태에서 불연속의 응집된 도상(island)형태로 변화(Si 전체 표면중 약 20%)하였다. 반면에 1500Å두께의 Au박막상에서 성장한 Cu-MOCVD박막은 두께 증가에 따른 미세구조의 차이, 즉 Cu박막중으로 Au원자의 확산여부는 Au박막에 유기되는 열응력(thermal stress)을 완화하는 과정에서 일어난 결과이다.

LI2형 결정구조를 갖는 Ni-20at.%AI-10at%Fe 금속간화합물에 boron, zirconium 과 hafnium을 최고 0.5at.% 까지 첨가하여 항복강도, 연성, 파괴 등 기계적 성질의 변화를 인장시험과 X선분석 및 XPS분석 등을 통하여 관찰하였다. Ni-20at.% AI-10at.% Fe금속간화합물에 boron을 첨가하였을 때는 연신율의 현저한 증가가 나타났으나 zirconium이나 hafnium첨가의 경우에는 별다른 효과가 나타나지 않았다. Ni-20at.%AI-10at%Fe 금속간화합물의 경우, boron의 양이 증가할수록 인장연신율이 증가하였으며 0.1at.%의 boron을 첨가한 경우 최고 48.5%의 상온인장연신율을 나타내었다. 첨가물을 넣지 않은 경우와 zirconium과 hafnium을 첨가한 경우, 파괴모드는 입계파괴의 형태를 나타내었으나 boron을 첨가한 경우에는 파괴모드가 입계파괴에서 입내파괴로 변화되었다. XPS분석을 통하여 boron이 입계에 편석된 것을 관찰할 수 있었으며 이는 이미 제시된 여러가지 해석들과 일치하는 결과이다. 이로부터 boron의 첨가에 따른 인장연신율의 증가는 boron의 입계편석거동과 관련이 있음을 알 수 있다.

RF-magnetron Sputtering Process를 이용하여 Pt/Ti/Si(100)기판위에 lanthanum-modified lead titanate 박막을 제작하였다. 기판온도와 증착시간이 증가함에 따라 증착율은 감소하였다. 기판온도가 증가함에 따라 fine grain들은 large grain으로 변화하였다. Perovskite구조는 기판온도 540˚C, gas pressure 30mtorr에서 나타나기 시작하였다. 본 실험에서 perovskite 박막제작에 대한 조건은 기판온도 580˚C, gas pressure 30mtorr였다. Pt/Ti/Si(100) 우선 배향된 박막을 얻었다. La양이 증가함에 따라 유전율, 항전계, 잔류분극량은 증가하였다. 중심주파수가 44.7MHz, 전파속도는 2680m/sec를 가지는 SAW filter 특성을 얻었다.

과냉각액체구역(δTx=Tx-Tg)을 갖는 Fe80P10C6B4 조성에 천이금속(Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, Mn, Co, Ni, Pd, Pt및 Cu)를 첨가하여 이들 원소가 유리화온도(Tg), 결정화온도(Tx) 및 과냉액체구역 (δTx)에 미치는 영향에 ?여 조사하였다. Fe80P10C6B4 합금의 δTx 값은 27K였으나 이 합금에 Hf, Ta 및 Mo을 각각 4at%첨가하면 그 값이 40k 이상으로 증가하였다. 이같은 δTx 값의 증가는 유리화온도(Tg의 상승보다 결정화온도(Tx)의 상승폭이 크기 때문이다. Tg 및 Tx는 외각전자밀도(e/a)가 약 7.38에서 7.05로 감소할수록 상승하였다. e/a의 감소는 천이금속과 다른 구성원소(반금속)사이의 상호결합상태를 의미한다. 즉 Tg 및 Tx의 상승은 강한 상호결합력에 기인하는 것으로 사료된다.

In the time of the rule of Japanese imperialism, Japanese style official residence played major role at the implantation of modern dwellings into Korea and its influences on Korean modern dwellings are distinguishable. This study focuses on the Japanese style official residence implanted into Korea before 1910. Before 1910 Japanese civilians in Korea builded just a traditional Japanese dwellings at the Japanese settlement in the ports opened. But Japanese engineers engaged in governmental organization of construction in the Old-Korean Empire builded a central corridor type Japanese dwellings as official residence. The central corridor type Japanese dwelling was an urban dwelling compromised between Japanese style and western style and distinguished by an outer-court type plan, Japanese entrance hall, central corridor and western style reception room. It is certified that the central corridor type Japanese dwelling was implanted into Korea before 1910 and this was the first time an urban dwelling to be implanted and spread through the whole Korea. The central corridor type Japanese dwelling implanted into Korea took in On-Dol and transformed to Korea-Japanese eclectic style. The central corridor type Japanese dwellings implanted into Korea in the time of the rule of Japanese imperialism makes function as a precedent of a modern urban dwelling to Korean and makes Korean dwellings transform from the rural inner court type into the urban outer court type.

A new CCD camera equipped with a large format chip is now under construction for the Kiso 105-cm Schmidt telescope. We use SITe TK2048E, of which pixel size is 24 μm and chip size is 48 mm square. TK2048E is thinned back-illuminated so that it has high sensitivity in U-band. The chip is cooled by a refrigerator instead of liquid nitrogen. MESSIA III is used as CCD control system.

We have constructed a near-infrared imaging camera which is attached to the prime focus of 105cm Schmidt telescope at Kiso Observatory. The camera is equipped with a 1040×1040 PtSi CSD array developed by Mitsubishi Electric Co. The combination of Kiso Schmidt and the array gives a wide field of view of 18.4'×18.4' with a reasonable spatial resolution of 1.06' /pixel. The system performances of the camera have been evaluated through laboratory and observational tests. Low noise, good cosmetics(no defect pixels), and good stability of the camera system show an excellent performance for astronomical use.

Here we report the results from spectroscopic observations of soloar active regions in the HeI 10830 Å line at the German Vacuum Tower Telescope(VTT) in Tenerife during the August 199:3 International EFR(Emerging Flux Region) Campaign. Four active regions in various stages of their evolution, i.e., NOAA7558, 7560, 7561, and 7562, were ovserved on 10 August 1993. From the observed HeI 10830 Å spectra in these active regions, spectroscopic quantities such as equivalent width(EW), doppler shift, doppler width, etc., were derived(see Figure l(a)) and the correlation between them were studied(see Figure l(b)). Our main results are as follows: (I)In NOAA7562, which is a young and evolving EFR, the EW is large, while it is small around a simple and roundish spot of NOAA7558. (2)In these active regions, redshift in the 10830 line is dominant when the EW is larger. (3)As the doppler width increases, the line tends to shift redward. (4)When the EW is smaller, it seems to exist another component which have dynamic characteristics different from the redshifting component. In NOAA7560 and NOAA7561, regions which have several small spots, the values of the EW are intermediate. Results (2) and (3) may suggest the possible existence of downflow above active regions, if the HeI 10830 Å line is formed in the upper chromopshere, and it is consistent with the earlyer result from the SMM extreme-ultraviolet observation by Klimchuk(1987, Astrophys. J., 323, 368) (to be submitted. to Astronomy and Astrophysics; an extended abstract)

Klebsiella sp. L-10 의 N-methyl-N`-nitro-N``-nitrosoguanidine 변이주인 Klebsiella sp. L-10 NTG-50으로부터 생산된 고점성의 히알우론산 복합체를 이상계 추출법으로 정제하여 물리화학적 성질을 조사하였다. 정제된 히알우론산 복합체의 점도는 온도와 염농도가 높아짐에 따라 낮아졌고 pH 5.0 이하와 11.0 이상에도 매우 낮았다. 정제된 히알우론산 복합체의 굳기(hardness)는 1.20kg, 응집성(cohesiveness)은 1.92, 점착성(adhesiveness)은 0.62 이었다. 또한 보수력은 g당 6.9ml이었다.